多晶硅电阻宽度变化，ｖｉａ消失。

051021031 · 发表于 2014-7-8 21:25:04

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大家好，我在花版图时遇到了非常奇怪的问题，我用多晶硅电阻，Ｌ３ｕｍ，　Ｗ８００ｎｍ，则显示ｖｉａ。如果改成Ｌ３ｕｍ，Ｗ１ｕｍ，则ｖｉａ就没有了，有没有人遇到过同样的问题啊。

andy2000a · 发表于 2014-7-9 07:38:01

via 沒有 ?
一般 LAYOUT TOOLS 有些會有 display bug .zoom out 會看不到小

另個是你使用 PDK 類畫 , PDK 可能剛好有 bug 會某些w/L 出錯
沒有就自己補.
以前沒有 PDK 時, layout 還不是直接畫

motofatfat · 发表于 2014-7-9 09:33:08

同意樓上的說法

051021031 · 发表于 2014-7-9 16:22:41

多谢两位啦，只要ＤＲＣ没问题，我就打算自己铺啦。

051021031 · 发表于 2014-7-10 16:39:14

再次求教，我试了直接加poly和metal 1之间的通孔，但是DRC过不了，原因是当多晶硅电阻宽度增大了以后，在通孔消失的位置多了一个叉形区域，那个区域是layer "CABAR",也就是说不允许打poly到metal 1的通孔（poly到metal 1的通孔layer是CA）。大家还有没有其他办法啊，有没有人遇到过这样的问题。谢谢。

051021031 · 发表于 2014-7-10 22:43:20

以解决，好像并不影响LVS。

[求助] 多晶硅电阻宽度变化，ｖｉａ消失。

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