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查看: 5958|回复: 7

[讨论] POLY不能在PPLUS和NPLUS外连接,是工艺上什么情况导致的。

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发表于 2016-7-27 11:08:07 | 显示全部楼层 |阅读模式

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如图,蓝色多晶硅必须在P注入和N注入内才能走线,为啥。
Red Hat Enterprise Linux 4 64 位-2016-07-27-10-57-57_看图王.png
Red Hat Enterprise Linux 4 64 位-2016-07-27-10-58-48_看图王.png
发表于 2016-7-27 11:35:52 | 显示全部楼层
其实跟工艺没什么关系吧
 楼主| 发表于 2016-7-27 11:42:13 | 显示全部楼层
回复 2# suly


那你知道为什么会这样吗,求助。
发表于 2016-7-27 15:01:16 | 显示全部楼层
猜想可能是阻值的问题,如果POLY不掺杂P+或者N+,阻值会大很多倍。
 楼主| 发表于 2016-7-27 17:06:47 | 显示全部楼层
回复 4# Snowy2016


   原来这样,一想好像真的是。而且40nm工艺中,应该是严格要求寄生电阻,工艺越精细要求越高,0.5um的就没这要求。
发表于 2016-7-27 20:28:29 | 显示全部楼层
4楼说的对 一般都是为了减小方阻
发表于 2016-7-28 11:49:42 | 显示全部楼层
poly的方阻确实大很多啊 所以一般都不会用poly去连线
发表于 2016-7-30 13:31:47 | 显示全部楼层
在较大工艺节点的时候,版图不需要用N+、P+注入那是因为以前的工艺poly都是npoly工艺,也就是实际工艺上成膜之前的材料已经完成掺杂。
在较小工艺节点,版图必须要用N+/P+覆盖,是因为先进工艺的poly生长是本征poly成膜,必须要在后面完成掺杂。
不做掺杂的poly是不能用来走线的,因为本征导体的电阻是电路所无法接受的。
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