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楼主: chaoqunlv

[求助] bandgap在工艺角仿真时,ss、ff差别较大,为什么,怎样可以解决?

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发表于 2013-6-20 01:50:04 | 显示全部楼层




分析基本思路没错。不过第2点,电流变化20%,BJT电压变化应该没有20%那么大,BJT的I~V并不是线形关系。
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发表于 2013-6-20 08:47:25 | 显示全部楼层
回复 21# ygchen2


    我想你误会了:res工艺角变化引起的bjt电压变化是热电势的20%……
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发表于 2013-6-20 22:34:30 | 显示全部楼层
回复 22# cyl
不好意思,没看仔细,误会了。
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发表于 2013-8-18 00:46:43 | 显示全部楼层
学习了!!!!
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发表于 2013-8-18 08:21:12 | 显示全部楼层
nicer
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发表于 2015-2-4 11:22:43 | 显示全部楼层
感谢,学习了……
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发表于 2015-5-21 15:26:26 | 显示全部楼层
。。。。。。。。。。。
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发表于 2015-5-21 18:42:26 | 显示全部楼层
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发表于 2015-5-22 09:07:16 | 显示全部楼层
本帖最后由 xiaoquanic 于 2015-5-22 09:09 编辑

学习了,一直做亚阈值的的电路基准,mc只仿mismatch就很好,340mv输出1.5mv标准差,但是仿了process就差了,340mv输出的基准,标准差达到26mv,因为电路用了两种阈值器件,2v和3v,温度范围做到了-20到120,tc小于10ppm,最大电流小于50nA,mc的process分析结果始终无法见人啊!!!
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发表于 2015-5-22 09:50:56 | 显示全部楼层
回复 29# xiaoquanic

可以上个电路图一起看看吗?
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