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[讨论] LDO/bandgap 问题 - Die-toDie 偏差的原因

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发表于 2011-6-9 17:14:17 | 显示全部楼层 |阅读模式

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LDO 流片出来,同一 Wafer 上的 Die-to-Die差异可以达到设计指标的 10 %,有些什么原因呢?关键的是哪个呢?

如果是运放失调,Mask既然一样,做出来的失调也会一样呀。
发表于 2011-6-9 18:44:44 | 显示全部楼层
本帖最后由 guang3000 于 2011-6-10 00:26 编辑

一般而言,CMOS运放的主要失调是由随机失调引起的
发表于 2011-6-9 18:58:02 | 显示全部楼层
一个wafer不同区域的情况也是不同的啊,当然存在die to die的失调了
 楼主| 发表于 2011-6-10 11:34:59 | 显示全部楼层




    我以为运放失调是管子尺寸的制造差异呀(书上这么讲的),光罩做好之后,同一个Wafer的管子制造差异就不会太大了。那随机失调是什么引起的,请解释一下。
 楼主| 发表于 2011-6-10 11:38:38 | 显示全部楼层


一个wafer不同区域的情况也是不同的啊,当然存在die to die的失调了
gy118 发表于 2011-6-9 18:58




    我觉得工艺偏差不会导致LDO输出太大差异。电阻是比例的,对称版图设计之后,即使偏也影响甚小;MOS管Corner影响不大;三极管影响算比较大些,但是远不到 10%。
发表于 2011-6-11 16:05:42 | 显示全部楼层
回复 5# KeepEasy

      MOS和电阻即使在layout上画的完全匹配,由于工艺的影响,也会存在随机误差,一般来说是和MOS及电阻的尺寸成反比,如果你在设计的时候没有考虑到这种随机误差,我觉得出现10%的偏差也是有可能的。不知道你采用的工艺是否提供蒙特卡洛分析需要的模型,没有的话可以手工计算一下运放offset。
    MOS跑过corner不代表就是OK的,corner考虑的是所有的管子的性能朝一个方向产生偏移,但是没有考虑到MOS,电阻之间匹配的问题。
发表于 2011-6-12 07:50:50 | 显示全部楼层
本帖最后由 guang3000 于 2011-6-12 07:56 编辑

运放的失配差的话,CMOS的bandgap做出来偏差个8%也不是不可能,可以根据CMOS运放的失配公式以及工艺表看看这个运放的3 sigma偏差是多少
 楼主| 发表于 2011-6-12 11:26:06 | 显示全部楼层


回复  KeepEasy

      MOS和电阻即使在layout上画的完全匹配,由于工艺的影响,也会存在随机误差,一般 ...
gy118 发表于 2011-6-11 16:05




    LDO中的MOS管少,大家集中在很小的面积里,这些个管子之间的工艺Corner相差无几,我觉得同一个 Die上的管子可以按照同一Corner来看待。

    此外,在光罩版(MASK)制好后,尺寸不匹配就基本固定了,不随机了,只有不同 Die 之间的工艺角不同。
    而且,同一个 Wafer 的工艺角,根据 Foundry 的测试,其偏差不大。
 楼主| 发表于 2011-6-12 11:29:37 | 显示全部楼层


运放的失配差的话,CMOS的bandgap做出来偏差个8%也不是不可能,可以根据CMOS运放的失配公式以及工艺表看看这 ...
guang3000 发表于 2011-6-12 07:50




    光罩版(MASK)制好后,尺寸不匹配就基本固定了,如果运放失配,那么同一个 Wafer 上的所有 Die 的管子尺寸和电阻失配程度都差不多(因为 MASK 固定了),那么最终的电压差异又从何而来?想不通
发表于 2011-6-12 17:41:42 | 显示全部楼层
你跑下蒙特卡洛分析就知道你的分布啦~
bandgap中心值的分布和LDO offset的分布
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