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[讨论] 65nm工艺下锁相环电荷泵漏电问题

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发表于 2011-6-15 09:55:29 | 显示全部楼层 |阅读模式

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这是一个65nm工艺电源电压为1.8VPLL电路的CP部分,如图1所示,

CP.jpg

1

ERR:版图的VC无法被PFD拉高(电路图正常)。

原因:估计有两条

1、偏置电压

电路仿真显示:CP上拉、下拉电流源均为130uA

版图仿真显示:CP上拉、下拉电流源均为60uA

查到偏置电压:电路仿真为0.4V,版图仿真为0.3V

偏置电路如图2所示


VBIAS.jpg

2

但是,我认为这应该不是影响VC上拉的主要原因。

2、漏电流影响

对于UPDN如图3所示


PFD.jpg

3

UP0的情况下,VC一直在努力上拉,却不如在UP1DN0的情况下,降低的多。因此,VC的电压一直保持在0.6V左右振荡,但是锁相环的锁定需要VC1.2V

由电路图和版图分析,LPF挂的为理想电容,那么出问题的应该是C1C3,预充电电路及电阻。个人认为最有可能的是C1,是不是65nm工艺导致这个地方的漏电流将VC拉低了。

另有两个问题:

1、
在图1所示的电路中,电阻R1R2分别起到什么作用?那么图2R2呢?

2、
C3
MIM电容,容值为0.9pF,我认为R2C3本身就是一种滤电路,那么这是不是用来滤出纹波的?

3、
如果我想提高Vbias电压,应该怎样调节电路呢?是不是调节R1就可以了?或者帮我分析一下这个电路。

 楼主| 发表于 2011-6-15 10:40:20 | 显示全部楼层
这种LPF结构(电阻,电容接电源,以前都是用的接地),有没有什么好处?和接地的有什么区别?
发表于 2011-6-15 13:21:30 | 显示全部楼层
PIAOGUO
 楼主| 发表于 2011-6-15 18:03:59 | 显示全部楼层
怎么没有人做PLL的了吗?
发表于 2011-6-15 23:21:04 | 显示全部楼层
回复 1# suzon


    CP不是很懂,借此问个有点无关的问题,65nm工艺一般不是配合1.2V的电源电压么~
 楼主| 发表于 2011-6-16 10:12:04 | 显示全部楼层
回复 5# happygrass


    65nm有三种电压:1.2V,2.5V,3.3V,但是为了降低功耗,可以对于1.2V的工艺采用1.0V电压,同理,2.5V可以使用1.8V电压。
发表于 2011-6-16 11:25:39 | 显示全部楼层
回复 6# suzon


    多谢~
发表于 2011-6-16 13:43:59 | 显示全部楼层
看了半天,原来还是在后仿阶段,既然是后仿,怀疑什么,都可以debug。比如怀疑漏电就测一下电流好了。我开始还以为是流片回来怀疑这怀疑那。
发表于 2011-10-8 12:02:24 | 显示全部楼层
nice...
发表于 2011-10-9 11:44:39 | 显示全部楼层
C1调小试试看,65nm版图一定要注意寄生效应,千万要对称
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