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这是一个65nm工艺电源电压为1.8V的PLL电路的CP部分,如图1所示,
图1 ERR:版图的VC无法被PFD拉高(电路图正常)。 原因:估计有两条 1、偏置电压 电路仿真显示:CP上拉、下拉电流源均为130uA; 版图仿真显示:CP上拉、下拉电流源均为60uA; 查到偏置电压:电路仿真为0.4V,版图仿真为0.3V ; 偏置电路如图2所示
图2 但是,我认为这应该不是影响VC上拉的主要原因。 2、漏电流影响 对于UP、DN如图3所示
图3 在UP为0的情况下,VC一直在努力上拉,却不如在UP为1、DN为0的情况下,降低的多。因此,VC的电压一直保持在0.6V左右振荡,但是锁相环的锁定需要VC为1.2V。 由电路图和版图分析,LPF挂的为理想电容,那么出问题的应该是C1和C3,预充电电路及电阻。个人认为最有可能的是C1,是不是65nm工艺导致这个地方的漏电流将VC拉低了。 另有两个问题: 1、
在图1所示的电路中,电阻R1,R2分别起到什么作用?那么图2中R2呢? 2、
C3为MIM电容,容值为0.9pF,我认为R2和C3本身就是一种滤电路,那么这是不是用来滤出纹波的? 3、
如果我想提高Vbias电压,应该怎样调节电路呢?是不是调节R1就可以了?或者帮我分析一下这个电路。 |