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楼主: 陌上苏沫

[求助] GGNMOS有不均匀导通的特点,那请问为什么拉宽Drain可以使其均匀导通呀

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发表于 2023-10-18 18:56:43 | 显示全部楼层
谢谢!学习!
发表于 2023-10-26 10:25:12 | 显示全部楼层
讨论的很热烈,学习了!
我想问GGNMOS不能像GCNMOS那样通过沟道开启泄放ESD电流(比如GATE和Source之间串个大电阻),是因为GGNMOS的面积太小的缘故?
发表于 2023-10-27 16:46:05 | 显示全部楼层

  放在nwell里的open drain的nmos,那应该就是类似ggnmos了。全部开启的条件是drain/pwell 都被反向击穿,所有的pwell都被太高,和source正向导通,寄生npn进入
放大区。gg走井,gate状态不影响npn是否开启。没加sab就会中间先开边上开不了,中间烧了。

  GC的话靠给gate电位开启,打esd时候gate变成1,nmos开启,esd电流通过沟道泄放。GC要是能即时开启的话,大概率管子全开了,M1接的好,所有gate默认电位一致

  pad上的二极管没打坏,power打坏。可能是二极管面积大  二极管还在扛的时候功率管先狗带了

改版准备咋整,加sab的话功率管性能会下降,加ggnmos的话就是改全版了,能不能在二极管那边想想办法,加块板子,改二极管掺杂浓度,让二极管早点通

蹲你们改版的后续

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发表于 2023-10-27 16:54:29 | 显示全部楼层
我的改版预计11月中旬回来,预测要到月底才能得到样片测试ESD了,到时候再来汇报情况,这次主要是修改了SAB层次,但是我很担心这次加了个电阻,这个驱动管的驱动能力有下降,客户又会不满意了,真的很难完美;客户就是这里,又要驱动电流大,又希望安全!
发表于 2023-10-27 17:09:36 | 显示全部楼层
tap是按照最远打的吗,下次可以打的密一点,比如按你那一大块,横竖加两条tap的话,会不会四个小方块的中间先开启,更加耐操点
发表于 2023-12-1 20:24:55 | 显示全部楼层
兄弟们,我之前没画SAB层导致的ESD问题,我这边重设计了SAB层后,晶圆已经生产出来了,又送去做了ESD,但是效果虽然好了一些,但是还是无法达到很好的效果,实际在对GND+和对VDD+(OPENDRAIN结构)的时候,最差的只有500V能通过,因我是设定从500V开始打,PASS后再增加500V,但打到1000V,有一颗就失效了,另外2颗在2000V失效;不过之前的效果更差,之前的效果是我设定从250V开打,可是大部分一开始打就失效了;现在至少能承受500V或者1000V,因为1000V失效的就一个;其他的都在1500V和2000V;这个效果是不是还是太差了,能出货吗?
发表于 2023-12-2 11:21:55 | 显示全部楼层


zhangyp 发表于 2023-12-1 20:24
兄弟们,我之前没画SAB层导致的ESD问题,我这边重设计了SAB层后,晶圆已经生产出来了,又送去做了ESD,但是 ...


这个为什么均匀性这么差啊,也差的太多了
发表于 2024-2-18 10:19:14 | 显示全部楼层
SAB有载流子饱和的特性,单位截面能过的最大电流受限,因此可以让大电流均匀导通
发表于 2024-7-29 16:06:36 | 显示全部楼层
本帖最后由 sunnyliu 于 2024-7-29 16:08 编辑


zhangyp 发表于 2023-12-1 20:24
兄弟们,我之前没画SAB层导致的ESD问题,我这边重设计了SAB层后,晶圆已经生产出来了,又送去做了ESD,但是 ...


你这个大片power mos版图确定了的情况下,通过NPN寄生泄放ESD的方式基本不可能了。去改版的话,只能希望ESD泄放通路尽量走沟道了(类似clamp)。你看看电路上有没有办法检测ESD信号,之前好像有人提到加一个cap的。可以试一下。但是一定要注意正常电压的波动范围内不要触发ESD事件。
发表于 2024-7-29 16:09:26 | 显示全部楼层
估计你这个power mos的面积还是非常大的,这个衬底压差非常明显。然后你的Vt2应该比Vt1小。你可以测个TLP验证一下
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