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用于10bit 200M的流水线ADC,电容翻转式的cmos采样保持电路
有几个问题搞不明白,而且有不少是论文中找不到答案的,特来求前辈解惑
1 衬底的连接,工艺是否允许另接电位,具体到在哪个文件可以看到工艺是双阱还是P阱
2 共模范围和差模范围的关系
共模点偏离中间值会使差模范围变小吗
是不是共模范围受限于共模反馈电路,差模范围受限于电路的工作点电路的线性度?
3 电容翻转型要用到共模反馈 那么输入和输出不匹配带来的误差有什么影响,输入和输出相差多大是允许的?
4 放大器的开环放大倍数随共模和差模以及频率变化会减小,怎么考虑?
5 方波采样,幅度要乘以sin(w)/w,这个误差怎么处理?
6 负载电容怎么估计 采样电路的负载包括以下部分:保持模式下翻转的采样电容、第一级MDAC采样,主运放共模反馈电容以及一些寄生电容,是直接相加吗?
7 开关的衬偏效应影响需要考虑吗
8 两相非交叠时钟+下级板采样还要考虑时钟馈通和电荷注入吗
9 放大器的单位增益带宽看到两种计算方法 一个是经验公式 GBW>a(N+1)ln2*fs/ 2*pi*f f为反馈系数,a取5
另一个是根据,带宽有限带来的误差小于1/4 LSB推出的理论公式 GBW>(N+2)ln2/2*pi*ts ts为建立时间,
二者的计算值相差2倍多,取哪个或者取中间值?
对于其中任何有任何想法或者了解的请留言,感激不尽 |
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