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楼主: lxboo

[求助] mos管做esd时,为什么漏端到poly的距离大于源端?

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发表于 2019-7-11 20:46:01 | 显示全部楼层
你学过二极管的原理就很清楚了,esd的作用和二极管可逆转试击穿一样的效果,关于pn节的原理,可以参考一下微电子器件书籍,或者到电子可以到电子科技大学的微电子专业去学下一下器件原理。
发表于 2019-7-15 11:43:47 | 显示全部楼层
不止要拉大gate到drain的距离  还要再drain上加SAB经行高阻处理
发表于 2019-7-15 15:11:20 | 显示全部楼层
mark一记
发表于 2021-1-3 15:12:02 | 显示全部楼层
谢谢楼上的各位解答
发表于 2023-4-24 17:30:28 | 显示全部楼层
好东西
发表于 2023-9-7 15:58:43 | 显示全部楼层
古德古德
发表于 2024-4-12 09:02:30 | 显示全部楼层
确实了解到了很多,谢谢
发表于 2024-9-5 10:35:33 | 显示全部楼层
学习学习  感谢
发表于 2024-9-5 16:35:29 | 显示全部楼层
学习了
发表于 2024-9-5 17:25:45 | 显示全部楼层
拉开Drain CONT到POLY的距离,增加SAB BLOCK , 首先增大电阻增加限流有利于导通的一致性,再有GGNMOS是靠寄生的NPN释放电流,Drain 等效是NPN的C, C需要面积大。
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