|
|
发表于 2011-8-26 12:56:04
|
显示全部楼层
一
ESD器件在ESD状态下要泻放很大的电流(1.33A for 2KV),那么这个ESD device需要承受很大的power(=Vh*Iesd),所以拉大间距是让它有足够的size去耗散很大的power,让ESD在泻放掉之前产生的热量不至于把铝线熔化掉(铝的熔点是580~740C, 硅的熔点是1400C).
二
拉大间距是为了增大drain端的电阻,尽管我们希望ESD路径上的电阻越小越好,那么ESD器件本身的耗散的功率将会很小,但是ESD器件由很多个finger组成,所以每个finger不可能同时被trigger起来(NMOS的均匀性最差),所以这个电阻是为了改善ESD device导通的均匀性而加入,在书里这个电阻应该叫做ballest resistor
拙见而已,欢迎指正 |
|