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楼主: fuyibin

大家做bandgap精度能到多少啊?这样的BGR有优势吗?

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 楼主| 发表于 2007-11-27 17:19:01 | 显示全部楼层
您好!不知道您用什么工艺库跑的
我感觉你跑的不对!我在前面的文章中就已经提到过
CMOS的bandgap的关键是在 (用PNP 做Vbe)bjt的工艺叫,
而不是mos的工艺角!
pn结也是有工艺角的,电阻也是有工艺角的
mos管的五工艺角基本不影响bandgap!!







原帖由 chan0331 于 2007-11-27 11:56 发表
0.35um CMOS的bandgap (Vbe 用PNP 做)
case 1: process:ss avdd=3.0 temp=100
case 2: process:ff avdd=3.6 temp=-40
結果差異不大 1.217 +/- 1mv
OP是self bias 所以沒有bias issue
至於current mirror  ...

 楼主| 发表于 2007-11-27 17:24:04 | 显示全部楼层
就是因为我要补偿工艺角的影响,用了新的结构,结果就弄成这样子了
是优化的结果





原帖由 chudong 于 2007-11-27 16:06 发表
为什么ff 和ss corner 都比tt 的时候大呢?不是一般应该介于tt的两边么?
这种情况适合model有关么?不解,希望哪位能解释一下?谢谢啦!!

发表于 2007-11-27 20:39:35 | 显示全部楼层
good talk
发表于 2007-12-26 14:00:05 | 显示全部楼层
我做了一款芯片,量产后测试发现bandgap的温度曲线顶点漂了很多
设计时大概在30度左右,tapeout后做温度测试发现竟然到了90度
发表于 2007-12-26 16:09:02 | 显示全部楼层
bjt的影响小于cmos process corner的影响吧  个人看法

似乎对于简单的结构来说 corner的影响是不可避免的

对与顶点飘溢的影响 也比较常见 我个人也不知道原因 但是熟悉工艺之后 你就会把握好这个提前量了 可以把拐点提前改变

为了得到高精度 就得采取复杂的结构
发表于 2007-12-26 18:15:30 | 显示全部楼层
no tapeout, no sense

Moreover, it can hardly find the advantage from simulation result.

It is easy to achieve the SPEC.
发表于 2007-12-27 21:14:49 | 显示全部楼层
像楼上说的那样,高精度的bgr都是需要非常昂贵的trim,用来调整那个resistor matix.
发表于 2009-5-12 14:57:26 | 显示全部楼层
用数字电路调电阻是什么意思??
发表于 2009-5-12 16:18:41 | 显示全部楼层
全跑corners, 如果是biCMOS的工艺

pmos,nmos(f,typ,s),bjt,r,c(h.typ,l),temp  (min, typ, max)

排列下来至少是50~60个,全面的会跑道1~200个左右

很多国内专利,paper都只能当绪论看看,就是这么来的
发表于 2009-5-12 20:01:39 | 显示全部楼层
没有流片,没有真相, JSSC的论文基本上都会秀一下芯片照片,加上测试数据.
BANDGAP性能是和工艺结合得很紧密的,仿真不能体现出所有的问题,(model不总是那么可靠的);
triming见过的有三种:1传统的熔丝,(分为poly 和metal),优点是便宜适合少量的trimming,缺点是:需要PAD,占用面积大,数量多了就不可行了
2 激光烧短,优点是:占用很少的面积,可以实现更多的trimming 缺点是:需要工艺支持,另外CP时也需要专门的设备,贵!!
3 利用OTP或者EEPROM,结合数字电路进行trimming.优点:可以实现封装后trimming,减小封装漂移,适合需要较多trimming的IC.缺点:需要工艺支持,电路设计更加复杂.

如果是非常有创意的想法的话,还是多做些功课, 想办法搭MPW流片吧(便宜些).
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