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查看: 23892|回复: 31

大家做bandgap精度能到多少啊?这样的BGR有优势吗?

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发表于 2007-11-22 14:56:39 | 显示全部楼层 |阅读模式

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大家做bandgap电压基准的精度到多少啊?
一般好像温度系数都弄得不错,到几十或者十几个ppm/c
但是好像很少考虑电压基准的初始精度哦
比如:设计1.23V的基准但是流片出来会变成1.23V +/-20mV或者更多
那么那十几个ppm/c的温度稳定性是否还有意义呢?

大家做bandgap跑工艺角的时候是不是也发现类似的问题,得到三个工艺角下
的三条温度特性曲线离得很远呢?
比如在室温下,FF角:1.25V,TT角:1.23V,SS角:1.21V
这里我要指出的是:这里的工艺角是BJT的工艺角,MOS管的工艺角对bandgap的影响不大,记得有一次,我师姐用CSMC上华0.5的工艺库作bandgap,跑工艺角,还非常好,三条曲线离得非常近,工艺角的影响小于温度的影响,我不信,仔细一看,是跑了MOS管的工艺角,见过国内有论文也这样搞的,根本就不对。
影响初始精度的还有op的失调电压和电流镜的mismatch

我弄了个东西,在不同工艺角下,温度特性曲线可以比较接近,但是温度特性变差了,但是将来所有芯片的偏差应该会有所改善
这个也不是我的课题,平时没事干,在驾校学车,想了个idea,居然还行,原来想写个论文,评奖学金用,初稿写好让导师看了,他语重心长地说不行,要申请专利,结果就改写专利申请书了
也不知道这个东西有没有实际意义,一般那些精度好一点的bandgap都要trimming的
斑竹最好给偶加个精华贴吧,最近没有分了,谢谢啦


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 楼主| 发表于 2007-11-22 17:00:13 | 显示全部楼层
目前好多产品的initial accuracy都在0.1%,不过比较贵
不清楚他们具体怎么做的
我猜大概是bipolar/BiCMOS工艺,再配合上laser trimming
模拟这东西,没有工艺支持,搞不好啊
 楼主| 发表于 2007-11-23 16:15:08 | 显示全部楼层

怎么都没人回复啊,做过bandgap的兄弟给指点一下吧
bandgap应该是很通用的module
没有tapeout的经验,痛苦啊
发表于 2007-11-24 00:19:04 | 显示全部楼层
模拟结果和测试结果确实是会差别很大的
 楼主| 发表于 2007-11-24 15:32:46 | 显示全部楼层
如果工艺角,失调失配都考虑到的话
也会有很大差别吗?
发表于 2007-11-25 09:19:13 | 显示全部楼层
差别会非常大的,如果是bipolar工艺做的话还好说,初始精度可以做到+/-6mV以内,但是如果是cmos的话除非用switch cap电路把OP的失调消除,否则是无论如何都不会达到这个精度的。
 楼主| 发表于 2007-11-26 14:45:06 | 显示全部楼层

我主要针对的是工艺偏差,而失调是芯片内部不对称不匹配引起
我指的工艺偏差是指大批量产时,芯片于芯片间的离散程度
主要是因为
(1)同一个wafer上不同位置的die
(2)同一批次中不同wafer上die
(3)不同批次中的die
工艺稳定会影响bandgap的初始精度
这方面主要关系到器件参数
(1)电阻绝对值的精度 约+/- 20%
(2)pn结电压等
这些其实受工艺决定,比如doping density ,the depth of difussion,
doping profile 等

[ 本帖最后由 fuyibin 于 2007-11-26 14:47 编辑 ]
发表于 2007-11-26 23:30:48 | 显示全部楼层
仿真结果没什么意义,古老的方法都是激光修调,现在一般都是通过一个数字电路调电阻网络
还有一下比如说存储电荷的方法
发表于 2007-11-27 11:56:00 | 显示全部楼层
0.35um CMOS的bandgap (Vbe 用PNP 做)
case 1: process:ss avdd=3.0 temp=100
case 2: process:ff avdd=3.6 temp=-40
結果差異不大 1.217 +/- 1mv
OP是self bias 所以沒有bias issue
至於current mirror layout mismatch 因為通常是
designer 自己handle layout. 誤差是會有的. 但不會很大
发表于 2007-11-27 16:06:47 | 显示全部楼层

为什么FF SS corner 均大于TT呢?

为什么ff 和ss corner 都比tt 的时候大呢?不是一般应该介于tt的两边么?
这种情况适合model有关么?不解,希望哪位能解释一下?谢谢啦!!
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