在线咨询
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
切换到宽版

EETOP 创芯网论坛 (原名:电子顶级开发网)

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

找回密码

  登录   注册  

快捷导航
搜帖子
查看: 8341|回复: 4

[求助] tsmc40 process , how to use in chip overlay cell ?

[复制链接]
发表于 2016-6-22 18:28:05 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册,结交更多好友,享用更多功能,让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

x
请教一下,台积40 工艺, ICOVL cell 怎么应用? 应用规则是什么?
需要连接吗
 楼主| 发表于 2016-6-23 13:35:02 | 显示全部楼层
?? no one ?
发表于 2020-9-9 10:25:22 | 显示全部楼层
GOOGLE

http://www.truevue.org/p/938



简称ICOVL单元,用于大的芯片设计中,检测工艺PO和OD(即栅)以及CO和PO(孔栅间距,或者栅的孔)的mask之间的重叠关系,可以减少mask对准上的错误。  两个ICOVLOverlay Cell可以分开使用,也可以组合使用。组合时cell中间的空间可以放其他cell,也可走线。一般ICOVL Cell的pitch大于2mm。DesignRule中给出根据floorplan的大小和形状放OVL的规则。
Overlay一般就是指下一层mask对以前的mask/图形的对准偏差,譬如Contact对Poly. 不同mask的overlayrule要求不同。对于40/45nm技术来说,S/D上的contact到poly的最小设计距离是40nm,overlay rule一般卡10nm好像;要是超过,contact到poly的short几率就会很大。而一般离子注入的mask对于active或poly的overlay要求就可以放宽到20nm样子,因为一般设计最小space是110nm样子。
TSMC 28nm提供了4种ICOVL Cell,2种单个的,2种混合的。


发表于 2021-5-7 17:08:22 来自手机 | 显示全部楼层
感谢楼上回复,学习到了!
发表于 2023-4-5 15:04:24 | 显示全部楼层


andy2000a 发表于 2020-9-9 10:25
GOOGLE

http://www.truevue.org/p/938


非常感谢
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /2 下一条


小黑屋| 手机版| 关于我们| 联系我们| 在线咨询| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2024-11-24 08:20 , Processed in 0.016676 second(s), 8 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表