55/65nm工艺对数字后端的影响

destiny21

对于65nm以下的工艺，几个方面要注意:
1. 最好保持一致的poly direction，以确保最少的variation.
2. wire的电阻会比.13明显增大，所以routing length不能太长，不能动辄1000um这么绕，多长的wire需要插一个repeat ...
yohuang 发表于 2010-7-10 14:42

                               
登录/注册后可看大图

好牛啊~~~
补充几点~~~
1 功耗问题越来越重要
2 DRC，DFM等设计规则越来越复杂

bobxx1234

顶一下…………

jacke_jacke

了解。。。

linglingfa

1 低功耗技术的使用
2 时序分析：进行多端角多模式分析，与噪声结合分析，与功耗结合分析
3 信号完整性问题，进行噪声分析
4 功耗分析：IR drop ，电迁移
5 可制造型分析：金属密度分析，与光刻相关的光学近似校验、移相掩膜等相关规则的检查等

kette

下下来看看先，谢谢楼主

kuyu200

下来看看 谢LZ

sinyxu

kan yi kan

htho55

Thanks for your sharing!

随风奔跑

很不错的帖子

razor1

终于放上来了，谢谢了哦！