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Process中的Lot-to-Lot variation是什么?

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发表于 2008-12-4 12:38:04 | 显示全部楼层 |阅读模式

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呵呵,大家不要笑我,这里的LOT是什么意思啊?

多谢多谢!
发表于 2008-12-4 16:31:26 | 显示全部楼层
25枚wafer称作一个lot,
由于工艺的复杂性,lot和lot之间会有参数的差异等。。。。
工艺越稳定,差异会越小。。。
 楼主| 发表于 2008-12-4 16:57:17 | 显示全部楼层
太谢谢啦!

多谢多谢。呵呵。能进一步问个问题么,嘿嘿:

为什么把25个算作一批呢?意思是每25个WAFER一组,看和下一组的25个wafer之间的区别?

如果本批次可能就需要12个WAFER,那么就不需要看lot to lot variation了?

--------问题实在是初级,不好意思哈

[ 本帖最后由 格子格子 于 2008-12-4 17:00 编辑 ]
发表于 2008-12-4 21:26:37 | 显示全部楼层
为什么不是23,26呢?
这个俺也不清楚,。。。。。

如果你就流12片的话,那就看不到这个差异性了。可以看到wafer 和wafer的差异了。
但是,对于一个产品要量产的话,一般还是需要看看的Lot-lot的,呵呵,祝好!
发表于 2016-8-8 17:35:33 | 显示全部楼层
thank you~
发表于 2016-8-8 18:01:00 | 显示全部楼层
25片或者24片一个lot,是原来早期的设备,主要是热氧化,清洗,最多一次可以放25片同步完成这个工艺。后面就逐步这样子了。

现在很多都是单步只能1/2片wafer。 很多精密工艺,如litho/etch,每个lot后面都需要处理一下,再进另一个lot,否则不能保证很干净。
发表于 2016-8-9 11:08:58 | 显示全部楼层
回复 6# bright_pan


    高手啊 。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。
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