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[求助] 关于90nm以及以下工艺的Multi-Corner的问题

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发表于 2011-9-19 16:57:33 | 显示全部楼层 |阅读模式

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本帖最后由 chris_li 于 2011-9-19 18:16 编辑

浏览坛内大大关于MMMC的帖子, 有一个具体问题, 相比90nm以上工艺, 90nm以及以下工艺时这个“Multi-Corner"到底有多少“corner”要分析?

Fast = Min = Best (三种不同叫法, PVT一样)
Slow = Max = Worst (三种不同叫法, PVT一样)

这不还是两个主要corner:Fast/Slow (或者 Min/Max 或者 Best/Worst) 吗?

如果使用SOCE, 不同PVT下RC值的变化描述在什么tech file里, LEF吗?
发表于 2011-9-19 20:47:21 | 显示全部楼层
MMMC : multi-mode multi-corner
multi mode 不谈了,就是多个模式, func,scan, mbist等,一个模式一个sdc

corner = RC corner + lib corner
RC corner以tsmc为例子,有cbest , cworst , rcbest , rcworst , typical 5种,
体现在extract的techfile里,比如Starxt,qrc的, tluplus,captable等,

lib corner有很多, tsmc的stdcell一般是7种:
wc  : worst case
wcl  : worst case low temperature ( -40C)
wcz : worst case zero degree,
bc : best case
lt : low temperature best case
ml : max leakage case
tc : typical case

因为90下有个低温反型效应,所以WCL 是多出来的,
 楼主| 发表于 2011-9-20 10:07:46 | 显示全部楼层



感谢版主。 RC corner 仅仅体现在 extract tech file 中吗(抽spef用吧)?如果不让PnR Tool吃进去 , 如何做MMMC driven PnR 呢? 给PnR 用的 RC tech file才是关键啊?
发表于 2011-9-22 03:47:12 | 显示全部楼层
如果PNR 工具不吃 各个corner的RC tech file,那就只有lib不一样了,

和signoff的时候还差的远,

rc corner当然主要就是体现在各种rc extraction 方面,
发表于 2015-7-29 19:29:50 | 显示全部楼层
学习了,谢谢!
发表于 2015-7-29 20:39:31 | 显示全部楼层
先盯着 wc + lt,

然后 是 rlt ,ltw

最后是 wl , rwc , rwl, ml
发表于 2017-3-6 14:38:43 | 显示全部楼层
回复 2# icfbicfb


   多谢指点
发表于 2017-5-11 17:59:42 | 显示全部楼层
学习了 多谢
发表于 2017-5-18 16:55:02 | 显示全部楼层
corner = RC corner + lib corner,
RC corner有5个,lib corner有7个,那conner总数是5*7=35个吗?
还是说worst case的lib Corner只对应worst的RC corner?
发表于 2017-5-19 09:29:44 | 显示全部楼层


corner = RC corner + lib corner,
RC corner有5个,lib corner有7个,那conner总数是5*7=35个吗?
还是 ...
tommy861126 发表于 2017-5-18 16:55




   没必要卡那么多,比如wc corner下的violation以setup为主,那就卡wc+rcmax就可以了。wc+rcmin这样的组合没什么意义。
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