关于版图LVS验证出现ERROR: Nothing in layout的问题

njupt_nzt · 发表于 2025-2-28 12:48:03

您需要登录才可以下载或查看，没有账号？注册

x

请问一下，为什么过lvs的时候会出现下边这两个error：
ERROR: Corresponding cells could not be identified.
ERROR: Nothing in layout.

这是为什么？应该怎么改？

A565417449 · 发表于 2025-2-28 13:19:37

CSMC工艺吗

fengrlove · 发表于 2025-2-28 13:39:19

1: 多layer或者少layer 2：layer map不对 3：rule 不对

23345 · 发表于 2025-2-28 13:47:16

rule 不对的概率大点

njupt_nzt · 发表于 2025-2-28 14:12:14

A565417449 发表于 2025-2-28 13:19
CSMC工艺吗

DBtech工艺

happy_star · 发表于 2025-2-28 14:51:47

看看是不是电源或者地label没打

njupt_nzt · 发表于 2025-2-28 15:56:32

破案了，DBtech这个工艺不能把poly的通孔打在poly里边，不然它会认为这不是一个mos管，所以会出现识别不到器件的问题

光非 · 发表于 2025-2-28 16:05:10

njupt_nzt 发表于 2025-2-28 15:56
破案了，DBtech这个工艺不能把poly的通孔打在poly里边，不然它会认为这不是一个mos管，所以会出现识别不到 ...

Cont 打在了 Gate 上？？？？？

njupt_nzt · 发表于 2025-2-28 16:22:42

光非发表于 2025-2-28 16:05
Cont 打在了 Gate 上？？？？？

就是在DBtech工艺中，M1_POLY的过孔不能打在poly上边，只能把poly延伸出来打孔。之前用smic工艺可能会报drc错误，但至少不会不出报告

A565417449 · 发表于 2025-2-28 16:49:14

njupt_nzt 发表于 2025-2-28 16:22
就是在DBtech工艺中，M1_POLY的过孔不能打在poly上边，只能把poly延伸出来打孔。之前用smic工艺可能会报d ...

你觉得会啥这个工艺不会出报告尼

[求助] 关于版图LVS验证出现ERROR: Nothing in layout的问题