wafer 洗边工艺

不吃细糠的山猪 · 发表于 2024-4-29 11:44:09

我知道的fab厂都会对wafer进行洗边处理，但具体是怎样的操作？洗边的目的是什么？求助大神讲解，感谢

Zenor · 发表于 2024-4-30 09:56:45

https://b2b.baidu.com/q/aland?q= ... 1256139&utype=2

cd1992 · 发表于 2024-4-30 15:09:20

洗边主要是清除掉晶边光阻不均匀对工艺以及良率造成的不好影响。工艺上主要是涉及两种，一是EBR（edge bead removal）拿solvent冲洗晶边，这效果比较粗糙。还有就是WEE（wafer edge exposure）,这个是对晶边晶圆进行曝光，后面显然可以给干掉，一般晶边是3mm。EBR宽度正常是比WEE小

LiuBrian_2024 · 发表于 2024-5-21 10:30:41

cd1992 发表于 2024-4-30 15:09
洗边主要是清除掉晶边光阻不均匀对工艺以及良率造成的不好影响。工艺上主要是涉及两种，一是EBR（edge bea ...

请教一下，一般wafer 洗边在流程中，在哪一步？WAT 前还是WAT 后.

Linch1 · 发表于 2024-5-25 23:23:14

LiuBrian_2024 发表于 2024-5-21 10:30
请教一下，一般wafer 洗边在流程中，在哪一步？WAT 前还是WAT 后.

肯定之前呀，WAT 是最后的了；除了PH WEE/EBR 之外，线上还有很多bevel remove 的step，，，defect/良率考虑

LiuBrian_2024 · 发表于 2024-5-27 10:41:35

Linch1 发表于 2024-5-25 23:23
肯定之前呀，WAT 是最后的了；除了PH WEE/EBR 之外，线上还有很多bevel remove 的step，，，defect/良率 ...

感谢！

Lisa_3dmic · 发表于 2024-7-24 15:38:44

cd1992 发表于 2024-4-30 15:09
洗边主要是清除掉晶边光阻不均匀对工艺以及良率造成的不好影响。工艺上主要是涉及两种，一是EBR（edge bea ...

再补充一点：还存在一个电镀铜之后的铜洗边，也叫ECP的EBR, 作用是去除晶圆边缘的一圈铜。

PN_Allen · 发表于 2024-8-7 15:40:43

楼上说的对，光刻有自己的洗边，EBR和WEE，因为光刻胶是旋涂的，一般到wafer边缘厚度会有差异。
另外其他工艺也有相关的边缘控制。

CrazyGengar · 发表于 2024-8-15 22:22:32

Lisa_3dmic 发表于 2024-7-24 15:38
再补充一点：还存在一个电镀铜之后的铜洗边，也叫ECP的EBR, 作用是去除晶圆边缘的一圈铜。 ...

感谢~！

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