随着wafer尺寸不断增大，如果仍然采用1：1比例的mask，就需要更大尺寸的透镜，同时对透镜折射率均匀性，表面均匀性，以及光学像差等提出了更高的要求。为了解决这一问题，步进式光刻技术(Steppers: Step and repeat systems )随之出现。步进式光刻的基本思想是：透镜尺寸不变，曝光区域由原来的整个wafer变为单个Die，采用小区域曝光。首先把wafer分成无数个小方块Die，通常尺寸为22mmX22mm（关于Die的概念可以参考以前的文章Y1D17—硅光相关概念wafer,die,chip以及bonding），然后通过4：1或者5：1的比例制作一个Die的mask(传统mask与wafer是1：1)。https://zhuanlan.zhihu.com/p/146326468
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发表于 2023-7-24 17:24:12
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