为什么随着工艺的提升，特征尺寸变小，掺杂浓度变高？

danalog · 发表于 2023-1-13 01:15:33

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如题，最近看论文，都提到了一点就是特征尺寸变小掺杂浓度变高，退火时间还减小了，这是为什么呢？

seafly2009 · 发表于 2023-1-13 09:38:23

特征尺寸变小掺杂浓度变高请百度MOS等比例缩小原则,退火时间减少是RTA设备的进步。。

danalog · 发表于 2023-1-13 13:02:04

seafly2009 发表于 2023-1-13 09:38
特征尺寸变小掺杂浓度变高请百度MOS等比例缩小原则,退火时间减少是RTA设备的进步。。 ...

多谢前辈

黄17141213013 · 发表于 2023-1-13 14:53:38

哪里的掺杂浓度？

lzkhot · 发表于 2023-2-21 21:54:45

Source leakage太大，要控制

xp1992121 · 发表于 2023-2-28 17:09:12

拿finfet来说，随着尺寸减小，沟道掺杂产生的随机分布效应（RDF）越发显著，所以undoped fin是常用的解决方案
但在源漏端，因为和contact接触电阻的问题，通常需要重掺杂减低电阻

[求助] 为什么随着工艺的提升，特征尺寸变小，掺杂浓度变高？