针对反相器和与非门的设计,我们首先需要仿真得到该工艺下,NMOS 与 PMOS 电流密度的关系,从而确定器件的宽长比。
选用 1.8V 的器件 n18ll_mis_ckt 和 p18ll_mis_ckt 搭建如下图所示的测试电路,选用最小尺寸的器件(W/L = 200n/210n)如图所示:
(注:此处选用 *_mis_ckt 的器件主要是因为它的里面包含了一些制造过程中的失配模型,利用它进行设计会使得前仿结果和后仿结果匹配度较高,而且蒙特卡洛的结果也会比较好。)
令 Vgs = 1.8V,Vds 从 0V 扫到 1.8V,得到 NMOS 和 PMOS 的 Ids - Vds 曲线,观察到当 Vds = 0.9V(即 1.8V 的中间电平)时,它们的电流之比为 139.37uA / 63.2669uA = 2.2 : 1。
为了方便起见,我们选取 PMOS 与 NMOS 的 W/L 之比为 2 : 1,其中 BGR_Inv1 中 NMOS 采用最小尺寸(200n/210n),PMOS 采用 NMOS 尺寸的 2 倍(400n/210n);对于 BGR_Inv4,其所有尺寸均增大 4 倍;对于 BGR_Inv16,其所有尺寸均增大 16 倍。下图从左到右依次是 BGR_Inv1、BGR_Inv4、BGR_Inv16 的原理图。
对于与非门,我们可以进行同样的分析,为了保证 NMOS 和 PMOS 具有一样的速度(即上升沿和下降沿的时间保持一致),需要保证 PMOS 和 NMOS 的 W/L 之比为 2 : 1。BGR_Nand2 为 2 输入与非门,BGR_Nand4 为 4 输入与非门,其原理图如下:
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