蒙特卡洛仿真pdk选择mc模型吗【已解决】

xuwenwei

正在做蒙特卡洛仿真，如果pdk中mos模型选tt也是可以跑蒙特卡洛的(不知这个里面怎么运作的)，但是差异会小（vth差异20mV），如果pdk中mos选择mc模型，跑蒙特卡洛，差异会很大(vth差异会到70mV)，因为正常的vth差异在30mV左右吧，那跑mc模型的话差异会很大，电路根本不能用了，所以发贴询问大神，跑蒙特卡洛的时候怎么选的?是不是选择tt跑蒙特卡洛就可以仿真tt情况下的missmatch了？ 那选择mc模型的话 是不是就是tt ff ss fs sf这些整个的一个missmatch？

xuwenwei

刚刚看了pdk里面的算法，应该选择tt的时候已经有个sigma参数在里面了，所以tt可以跑，选mc的话应该就是上面说的整个的，所以应该单独跑 tt  ff  ss情况下的蒙特卡洛。

66260001

楼上的是在哪个节点工艺 model 有多少cor呢？

xuwenwei

66260001 发表于 2020-5-15 09:01
楼上的是在哪个节点工艺 model 有多少cor呢？

.18  有5个corner

66260001

xuwenwei 发表于 2020-5-15 13:57
.18  有5个corner

如果是五个cor  那么你在ff 或者ss run 的mc 有点不太理解  常规来讲ff ss 应该是器件的两个极端情况了，在极端情况上在加入MC是不是run出来的值会很大，而实际上器件的偏差并没有这么大？

xuwenwei

66260001 发表于 2020-5-15 14:20
如果是五个cor  那么你在ff 或者ss run 的mc 有点不太理解  常规来讲ff ss 应该是器件的两个极端情况了， ...

模型里面的tt的mc参数就比 mos_mc的参数相对简单很多，所以变化量很小的。
单纯跑某一个corner的mc，变化不会很大的。

cceenn

是corner的选择中有一个mc

Secwea

请教一下蒙特卡洛仿真的方法，想仿真一下失调电压

xuwenwei

你用specture的话需要pdk中model支持，用ade_xl仿真，如果hspice的话 你要用语句来仿真

andyfan

看工艺节点吧，也看模型做法。老的工艺节点，带统计模型的，只是单纯的Mismatch，严格意义上在FF/SS再跑，是OVERDESIGN了。

器件统计上的VARIATION，是按intra die，die to die , wafer to wafer, lot to lot区分的，intra die可以认为是模拟比较关心的mismatch，也称作local variation；后面三种统一认为是global variation，而total variation就是这两者的统计均方和，TOTAL^2=LOCAL^2+GLOBAL^2.

传统的TT/FF/SS其实就是total variation的3 sigma，所以在这基础上再做Mismatch，肯定就overdesign了。但传统的5个CORNER的模型本身也没太好的方法，或者说老工艺相对VARIATION小，做做TT+mistach应该够了。

新的9个CORNER的模型，可以选择TT条件下做global+local的蒙卡，也可以选择在FFG/SSG条件下，做local的蒙卡，一般情况下，两种方法结果是可比的。