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[求助] 关于离子注入

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发表于 2017-9-28 16:03:47 | 显示全部楼层 |阅读模式

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求助大神,在集成电路版图工艺制造中,对于3.3v和5v的管子,有low vt和native,没有掩膜版的时候如何完成低浓度和高浓度的离子注入?如何做出耐压值不一样的器件?
发表于 2017-9-29 18:56:58 | 显示全部楼层
你这个情况说的也太简单了,其他条件呢,你都没有说,我该怎么回答
 楼主| 发表于 2017-9-30 14:05:45 | 显示全部楼层
回复 2# 14102058


   那你解释下什么是合成板?
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