process pitch（间距）修改的疑问

defflin · 发表于 2013-4-12 14:35:39

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本帖最后由 defflin 于 2013-4-12 14:49 编辑

我们之前使用某foundry 180nm 工艺，2P6M的设计规则，工艺文件中的pitch定义如下：
M1 pitch 0.56u
M2 pitch 0.56u
M3 pitch 0.56u
M4 pitch 0.56u
M5 pitch 0.56u （tech lef：1.12u）
M6 pitch 0.95u （tech lef: 1.12u）

但是我们工具读入的规则，M2 pitch为0.66u，M4 pitch为0.66u , 读入后发现某些cell，产生了drc问题，具体是相邻的pin由M1跳到M2的时候，在M2间距 < 0.66u；

所以我们打算对工具读入的规则中的pitch进行更改： M2 0.66u --> 0.56u
M4  0.66u --> 0.56u
  M5 0.56u --> 1.12u
  M6 0.95u --> 1.12u

不知道这种更改可不可行呢？会不会影响寄生参数提取？

jstaishi · 发表于 2013-10-23 11:20:15

请问这个问题后来怎么样了啊？
pitch修改后对寄生参数跟drc影响大吗

defflin · 发表于 2014-3-25 13:45:05

实际pitch还是按照 foundry的工艺文件修改的；已经投片生产，目前没发现什么问题

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