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查看: 9059|回复: 8

[原创] 40nm design rule中的问题

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发表于 2012-1-12 11:45:28 | 显示全部楼层 |阅读模式

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在看design rule时,经常遇到OPC,这个OPC到底是指什么啊,怎么理解?
例如在SR_DPO Layout Rules中,SR_DPO is used for dummy poly ,and it is a tape-out repuired layer and will be OPC treatment. 我已经查看了一些资料,还是不能很好的理解OPC。
希望各路大侠指教啊!
发表于 2012-1-12 12:00:16 | 显示全部楼层
OPC : optical proximity correction 光学临近矫正,  和PSM 配合使用的
就是对tapeout的pattern做一些光学矫正,让更加DFM 话,成品率更高,
在在.18um以下是必须的,

SR_DPO 就是smaller type dummy poly, 和DPO(标准dummy poly)配合使用,
要做些opc处理,  都是工艺上的事情, 也不用多管
 楼主| 发表于 2012-1-12 13:11:51 | 显示全部楼层
回复 2# icfbicfb


   恩,谢谢你icfb版主。了解了。还有个问题,PSM是process safety management吗? RPO是指什么啊?
发表于 2012-1-12 15:47:23 | 显示全部楼层



PSM: Phase Shift Mask,相移光罩,与OPC相似,也是应用在Mask上的技术, 目的为了让曝光后的图形接近layout mask。

LZ都做40nm,是外企吧, 呵呵。
 楼主| 发表于 2012-1-12 16:43:29 | 显示全部楼层
回复 4# chris_li


    恩,谢谢你,是的,我刚工作,在台企。呵呵
发表于 2012-1-12 17:18:55 | 显示全部楼层


回复  chris_li


    恩,谢谢你,是的,我刚工作,在台企。呵呵
wxcarson 发表于 2012-1-12 16:43



呵呵。

关于OPC,我举个简单的例子, layout上的一个矩形segment, 经过mask曝光后刻蚀在wafer上的形状不一定能保持这个矩形, 也许四个角都变得圆滑了, 甚至有缩小的趋势, 这就需要OPC技术来给它修回去。
 楼主| 发表于 2012-1-12 18:10:30 | 显示全部楼层
回复 6# chris_li


    恩,正如你举得例子,那OPC和PSM是怎么配合进行修正的啊?
发表于 2017-4-27 17:35:14 | 显示全部楼层
回复 1# wxcarson

楼主你好,我最近刚接触40nm工艺的版图,不知能否指点一二?
发表于 2018-12-28 16:03:05 | 显示全部楼层
回复 1# wxcarson


   求问楼主知道design rule具体在PDK的什么位置吗?
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