40nm design rule中的问题

wxcarson · 发表于 2012-1-12 11:45:28

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在看design rule时，经常遇到OPC，这个OPC到底是指什么啊，怎么理解？
例如在SR_DPO layout Rules中，SR_DPO is used for dummy poly ,and it is a tape-out repuired layer and will be OPC treatment. 我已经查看了一些资料，还是不能很好的理解OPC。
希望各路大侠指教啊！

icfbicfb · 发表于 2012-1-12 12:00:16

OPC : optical proximity correction 光学临近矫正，和PSM 配合使用的
就是对tapeout的pattern做一些光学矫正，让更加DFM 话，成品率更高，
在在.18um以下是必须的，

SR_DPO 就是smaller type dummy poly，和DPO（标准dummy poly）配合使用，
要做些opc处理，都是工艺上的事情，也不用多管

wxcarson · 发表于 2012-1-12 13:11:51

回复 2# icfbicfb

恩，谢谢你icfb版主。了解了。还有个问题，PSM是process safety management吗? RPO是指什么啊？

chris_li · 发表于 2012-1-12 15:47:23

回复 icfbicfb

恩，谢谢你icfb版主。了解了。还有个问题，PSM是process safety management吗? RP ...
wxcarson 发表于 2012-1-12 13:11

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PSM： Phase Shift Mask，相移光罩，与OPC相似，也是应用在Mask上的技术，目的为了让曝光后的图形接近layout mask。

LZ都做40nm，是外企吧，呵呵。

wxcarson · 发表于 2012-1-12 16:43:29

回复 4# chris_li

恩，谢谢你，是的，我刚工作，在台企。呵呵

chris_li · 发表于 2012-1-12 17:18:55

回复 chris_li

恩，谢谢你，是的，我刚工作，在台企。呵呵
wxcarson 发表于 2012-1-12 16:43

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呵呵。

关于OPC，我举个简单的例子， layout上的一个矩形segment，经过mask曝光后刻蚀在wafer上的形状不一定能保持这个矩形，也许四个角都变得圆滑了，甚至有缩小的趋势，这就需要OPC技术来给它修回去。

wxcarson · 发表于 2012-1-12 18:10:30

回复 6# chris_li

恩，正如你举得例子，那OPC和PSM是怎么配合进行修正的啊？

t_zheng · 发表于 2017-4-27 17:35:14

回复 1# wxcarson

楼主你好，我最近刚接触40nm工艺的版图，不知能否指点一二？

VAEEE · 发表于 2018-12-28 16:03:05

回复 1# wxcarson

求问楼主知道design rule具体在PDK的什么位置吗？

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