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本帖最后由 satokazuo 于 2011-12-18 01:33 编辑
毕业专题是一个capacitor-lessLDO regulator,一个简单的模拟电路.但是从8/21开始至今12/17日还在Pre-SIM,主要是因为PVT cornor的问题。牺牲了一切娱乐,而且也退掉补习,也没准备升研究所考试,就只是卡在这PVT角落上,快疯掉了! 我只是想把东西做好,牺牲研究所考试没关系,但要知道原因
模拟IC里面一位有名的研究学者,R. JACOBBAKER在他的网站上说了一些PVT的迷思。他举了一个例子,
Don’t let SPICE trick you into thinking that bytweaking the length and the 不要让spice骗了你,让你试着由调整晶体管的长度和 width of the devices you can make the currentsequal (yikes! ;-) and keep both 宽度,所以你可以使这两个电流相等,且保持让两者 devices in saturation (always) 都在饱和区,因为这个和PVT有关
专题里面的电路都是要偏压在饱和区。学长要求全部PVT(TT SS FF SF FS,+ -10%VDD,-40~120度)都要饱和。光调MOS长度和宽度就调了三个月。好不容易在模拟上"看起来"全角落都饱和。
LDO规格中有一个LOADRegulation要求要<50ppm/mA
我的规格在TT 25 VDD可达到20ppm/mA但在某些角落下高达1000ppm/mA 因为规格表上要附上的是最差数据当作保守数据,但明显的1000ppm/mA这个模拟PVT的结果会让我这一辈子毕不了业 网络上也有人问过为什么LDO的PAPER只有打上一般状态的数据而不是最差数据(答案有两种:一个是过不了,另外一个是不同设计考虑有不同PVT,这我可以理解)请问
1.但我到底该怎么办?是要附上20ppm/mA的数据呢?还是真的要打上最差保守数据(1000ppm/mA) 2.又要用什么样的态度去看待PVT的模拟呢?为什么几乎全部的LDO的paper都只有附上一般状态下的规格?
仔细检查过后知道是因为Voff_set造成的。但会造持成Voff_set就是因为PVT的不理想,(让电晶体管看起来"饱和"可以经由调整,但Voff_set在模拟中是无法控制的。) 问题:同学为了考研究所,故意放掉某些过不了的corner,只放TT 25的数据。
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