两种金属dummy，哪种比较好

czjkk · 发表于 2011-9-24 00:32:52

马上注册，结交更多好友，享用更多功能，让你轻松玩转社区。

您需要登录才可以下载或查看，没有账号？注册

x

上面两种金属dummy，哪种比较好？为什么？
据牛人说右边的比较好

icfbicfb · 发表于 2011-9-24 00:40:13

没见过右边的啊， 45度很容易offgrid，

只看过左边这种的， tsmc的

czjkk · 发表于 2011-9-24 09:45:34

回复 2# icfbicfb

去Marvell后端面试的时候，考官说右边的比较好，也不告诉我原因，让我自己想！
我也说只见过左边的，他说见过的未必就是最好的！

陈涛 · 发表于 2011-9-24 10:46:09

2种的实际效果应该是一样的，但是右边的比较容易“骗过”DRC检测

icfbicfb · 发表于 2011-9-24 15:22:59

为啥， tsmc官方的utility都是左边的，有些公司有一些自己的东西吧，没见过，

45度的是很容易offgrid的

陈涛 · 发表于 2011-9-24 22:55:30

那是因为左边的比较容易写script做出来
dummy metal还考虑on gird的事情吗？

icfbicfb · 发表于 2011-9-24 23:45:59

当然了， offgrid 有可能造成dummy和real metal short 啊，

offgrid造成 open，short都有可能的，

陈涛 · 发表于 2011-9-26 12:11:27

那是DRC的space应该检查的，它如果说通过了，就不用管off grid了

tiger_lein · 发表于 2011-9-26 22:31:06

1、metal dummy是基于工艺中平整度考虑，也能适当的减少layer层的应力，基于这个考虑图2好于图1；刻蚀中不规则的图形很容易引起过刻蚀或者欠刻蚀的情况，所以不管数字版图或者模拟版图尽量少走45°走信号线，由此来看图1的刻蚀效果会好于图2的，但是关注metal dummy的刻蚀效果又有多少意义呢；
2、陈涛版主说的对，metal dummy不用考虑offgrid的问题，我们考虑offgrid优先看的poly栅的offgrid问题，因为w/l的变化会直接影响器件的性能参数；

icfbicfb · 发表于 2011-9-26 22:54:22

offgrid 和spacing是2码事情好不好， drc runset里面一般会标的

OFFGRID check YES ,

offgrid对于所有金属层和dummy层都是应该查的，从理论上offgrid都有导致周围的线short，open的可能性，

但是有的情况下，不管offgrid 确实也不会引起open，short ，保险起见，还是都修掉

[求助] 两种金属dummy，哪种比较好

马上注册，结交更多好友，享用更多功能，让你轻松玩转社区。

相关帖子

站长推荐 /2