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楼主: chaoqunlv

[求助] 请问怎样看到中芯国际.18工艺下的工艺常数,就是迁移率与单位面积的栅氧化层电容之积

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发表于 2014-12-3 09:24:37 | 显示全部楼层
从来不算~~~~~
发表于 2015-7-15 11:29:18 | 显示全部楼层
直接用公式求
发表于 2015-10-20 17:11:20 | 显示全部楼层
回复 21# sweet不想长大


   有的库文件中带有model文件夹,内有spice和spectre的模型文件,不过大部分库文件中都没有附带model文件
发表于 2016-4-17 20:38:49 | 显示全部楼层
回复 5# feynmancgz

你好~层主,请问能教教我怎么分别仿真这两个参数吗?
发表于 2016-4-17 20:42:12 | 显示全部楼层
回复 16# gmrk


   你好~层主,请教下你可以不,实践的方法是仿真吗?这个可以仿真得到这两个参数的值吗?
发表于 2018-7-23 10:58:26 | 显示全部楼层
学习了  谢谢
发表于 2018-7-23 13:06:49 | 显示全部楼层
可以在schematic里拖一个管子,用spectre做个dc仿真,保存静态工作点,再看这个器件的静态工作点参数列表里有个betaeff就是unCox的值
发表于 2020-6-8 12:52:25 | 显示全部楼层


s橙子s 发表于 2018-7-23 13:06
可以在schematic里拖一个管子,用spectre做个dc仿真,保存静态工作点,再看这个器件的静态工作点参数列表里 ...


为什么按照您的方法,仿出来一个是421m左右,另一个是900m左右
发表于 2022-1-23 21:00:55 | 显示全部楼层
学习了
发表于 2022-1-23 23:28:54 | 显示全部楼层


s橙子s 发表于 2018-7-23 13:06
可以在schematic里拖一个管子,用spectre做个dc仿真,保存静态工作点,再看这个器件的静态工作点参数列表里 ...



仿了一个NMOS的IV曲线,从上往下是Vgs在不同值的betaeff,随着vgs的变化而变化,请问大佬这个怎么解释?谢谢

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