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请教“天线效应”

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发表于 2009-11-10 10:51:15 | 显示全部楼层 |阅读模式

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最近和朋友讨论天线效应的时候,他说从poly直接跳到最顶层金属。。。 我个人感到疑惑的是,如果是4层以上金属,如何从底层poly直接跳到顶层? 我问朋友,他说是听O2的一个工程师说的,他个人也不太清楚。。。
我本人是做电路的。。。 对这方面也是不是很清楚,所以请各位大侠指点
发表于 2009-11-10 11:09:40 | 显示全部楼层
简单解释一把:天线效应是说如果Poly在版图中走得过长(几十um)并且被包在场氧(Poly和silicon之间)和Nitride(Poly和Metal 1之间),会增加收集电荷的几率。(氧化层和氮化层中的电荷是由于制造工艺不能保证高纯度造成的)。这些被收集了的电荷被Poly收集后由于获得了更低能级,很难再向高能级(氧化层或氮化层)跃迁。从而Poly的电位就会由于电荷而增加或减小,Gate Poly下的沟道也会被永久开启或者永久关闭甚至是击穿栅氧。于是对芯片造成误触发或者是永久性的伤害。
解决这个问题的办法是找到一个比Poly更低能级的材料,吸收Poly中的电荷。很显然,芯片中比Poly能级更低的只能是金属,所以版图级别的解决方法是尽量画短Poly,不用Poly当做连线;当Poly不得不画得太长的时候(比如说反管),需要在Poly上再借足够长的Metal,任何一层的Metal都可以。当然,如果通过Metal1连接到Metal2,最后连接到Top Metal,这样电荷会跑到芯片最顶端,很难开启氮化层和场氧下面的silicon,这样最安全了。
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发表于 2009-11-10 15:42:43 | 显示全部楼层
回答不错
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发表于 2009-11-10 18:50:26 | 显示全部楼层
同意二楼的解释

还有一种方法是用二极管消除
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发表于 2010-5-26 13:11:00 | 显示全部楼层
谢谢二楼的兄弟 说的好 要是能写一篇 关于天线效应的文章 就最好了
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发表于 2010-5-26 13:33:56 | 显示全部楼层


   
简单解释一把:天线效应是说如果Poly在版图中走得过长(几十um)并且被包在场氧(Poly和silicon之间)和Nitride(Poly和Metal 1之间),会增加收集电荷的几率。(氧化层和氮化层中的电荷是由于制造工艺不能保证高纯度 ...
wind2000sp3 发表于 2009-11-10 11:09


这个解释还是第一次听说,新奇。。。

天线效应razavi的书上有讲啊,看看就知道了。
还有模拟版图艺术上面也有。
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发表于 2010-8-22 06:36:15 | 显示全部楼层
很好很好。
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发表于 2010-8-23 10:59:51 | 显示全部楼层
天线效应貌似不是这样的吧
不单是大片POLY,大片金属如果和MOS 栅直接相连,也会引起天线效应
将栅氧化层烧掉
用跳线就行了
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发表于 2010-8-23 12:24:58 | 显示全部楼层
同意8楼的,能收集电荷产生天线效应是POLY和与POLY相连的金属啊,与二者面积有关,因为栅的制作是用的干法刻蚀,此工艺中有较高电压,多晶硅栅会收集电荷,造成MOS击穿。
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发表于 2010-8-23 16:00:08 | 显示全部楼层
同意8楼的,若金属层面积超过规则,则要向高层跳线才可以,若往下一层跳线的话是没有意义的
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