关于管子的叉指数m

mekenny

用HSPCIE仿真，网表
w=20um  l=2um   
与
w＝5um  l＝2um  m＝4
这两种表达仿真结果是不是一样的？版图上做出来的w肯定是不相等的。仿真的时候会不会考虑由于氧化层侵蚀导致的每条叉指的w变小一些？

sumig

用finger或许会更好些把^_^，请前辈指教

[ 本帖最后由 sumig 于 2008-11-2 19:59 编辑 ]

awcx

仿真的时候应该是等效的

iamxo

会有点不一样。
我之前用tsmc .35做过，稍微有点不一样。

belgium

it differs from layout type.
if you use figure, you mean to use source/drain sharing.
if you use multiple, it is not  to use sharing.
it is equal in low freauency design.
but if it is used in RF design.
it differs a lot....

pandaoyzh

牛人才

jimway

在65nm下,三者肯定是不一样的,不管高频还是dc

analogicer

当然不一样了，w=20和w=5的管子的vth是有才差别的。

zy_hit

电路仿真的阈值电压可能不同体效应也不一样

semico_ljj

   

原帖由 analogicer 于 2008-11-5 10:21 发表

                               
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当然不一样了，w=20和w=5的管子的vth是有才差别的。

中的。。。