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关于电迁移的问题

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发表于 2008-10-29 22:49:23 | 显示全部楼层 |阅读模式

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问题如下:
电流密度对电迁移的影响,以及这些影响如何在ic设计和版图上尽量避免?

烦请前辈们指导指导
 楼主| 发表于 2008-11-10 23:12:41 | 显示全部楼层
没有人做这方面的吗?
555555
发表于 2008-11-12 10:35:34 | 显示全部楼层
电迁移产生的因素主要是电流密度过大,这可能导致连线电子空隙或接触孔处产生电子堆积,从而引起导线电阻增加甚至短路。
建议:根据电流大小调整线宽,多打接触孔
头像被屏蔽
发表于 2008-11-12 19:56:51 | 显示全部楼层
提示: 作者被禁止或删除 内容自动屏蔽
发表于 2011-11-8 09:01:22 | 显示全部楼层
EM并不见得都是要避免的.
发表于 2011-11-8 09:42:11 | 显示全部楼层
一般要遵守design rule上关于metal density的rule。
发表于 2011-11-8 14:48:22 | 显示全部楼层
回复 1# yiyangu


    绕线的时候有个选项的,可以避免EM
发表于 2011-11-8 16:51:03 | 显示全部楼层
避免大电流从细金属线流过。一般就是加宽金属线吧
发表于 2011-11-8 20:18:33 | 显示全部楼层
主要是power route上 的EM比较严重, 当然高速信号上也有可能EM violation,比如超过500~600Mhz,的时钟线上,

防止EM的最简单方法就是加大线宽啊,比如 2 width clock net

对于power route, 加大宽度和增加供应也是对的,比如走多层金属布线,

个人认为没必要注意EM啊, 一个芯片能用几年啊,如果EM都好, 大家不要做芯片了,
一个芯片用100年, 哈哈,开个玩笑
发表于 2011-11-8 20:19:15 | 显示全部楼层
EM随着温度升高  ,发生的可能性加大,

高温高压 是 EM 最critical的corner了, FF corner
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