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不同工艺下电子迁移率有区别么

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发表于 2008-8-25 14:41:50 | 显示全部楼层 |阅读模式

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不同工艺下电子迁移率有区别么

我怎样可以得到不同工艺下相应的典型工艺参数呢,如阈值电压、电子/空穴迁移率等
 楼主| 发表于 2008-8-25 17:32:58 | 显示全部楼层
有没有具体工艺的具体参数表呀
发表于 2008-8-29 16:39:34 | 显示全部楼层
工艺越小 越明显吧?
发表于 2008-8-29 23:51:21 | 显示全部楼层

好,我看看

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发表于 2008-8-30 16:40:09 | 显示全部楼层
即使是同种工艺,不同的代工厂商生产得到的产品迁移率都差很多(charter的数据就比smic的高不少)具体数据可以从投片公司获得。
发表于 2008-9-17 09:07:05 | 显示全部楼层
TSMC和SMIC接近
发表于 2008-9-17 10:53:17 | 显示全部楼层
自己作个曲线图都可以
发表于 2008-9-17 16:44:43 | 显示全部楼层
FAB那里有数据的。你可以看到。这个经验吧。做的项目多了,接触的工艺就多了,就大概知道各种工艺的典型参数了。
发表于 2008-10-13 17:37:13 | 显示全部楼层
da^^^^^
发表于 2009-8-13 21:01:29 | 显示全部楼层
当然不同啦, 掺杂都不同
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