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[求助] 关于0.13um工艺中估算宽长比的问题

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发表于 2011-11-9 11:50:49 | 显示全部楼层 |阅读模式

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本帖最后由 wspyl 于 2011-11-9 16:23 编辑

一、请问在0.13um工艺中估算宽长比时,NMOS的Un*Cox与(Vgs-Vth)、PMOS的Up*Cox与(Vgs-Vth)一般取多少啊?
    二、还有就是我看拉扎维的书上说,一般NMOS的电子迁移率Un是PMOS的空穴迁移率Up的4倍,那是不是意味着在估算宽长比时,在相同Id下,一般PMOS的宽长比要取为NMOS的4倍?

哪位大哥知道麻烦赐教一下,谢谢了。
发表于 2011-11-9 14:43:57 | 显示全部楼层
不一定取4倍,要综合考虑面积,延时和功耗等因素!
而且一般也不会取4倍这么大
 楼主| 发表于 2011-11-9 16:22:07 | 显示全部楼层




   谢谢啊。
   那Un*Cox与Vgs-Vth这些一般取多少呢?
发表于 2011-11-9 16:52:07 | 显示全部楼层
回复 3# wspyl


    看model文件里面能推出来的,或者直接仿真再反推
发表于 2011-11-10 13:38:21 | 显示全部楼层
根据拉扎维的书和仿真后的结果反推一下,记住这个数量级以后就可以估算了
 楼主| 发表于 2011-11-15 18:12:17 | 显示全部楼层


根据拉扎维的书和仿真后的结果反推一下,记住这个数量级以后就可以估算了
firefly-317 发表于 2011-11-10 13:38




   但是我根据实际电路仿真后反推出来的结果,不同位置的MOS管以及相同位置的PMOS和NMOS管,它们的Un*Cox或者Up*Cox都有很大的不同啊,不过基本上是在一个数量级。
发表于 2012-5-11 14:38:31 | 显示全部楼层
恩,感谢楼主啊!学习了好多!
发表于 2012-5-23 16:03:28 | 显示全部楼层
学习了的
发表于 2012-5-23 20:03:11 | 显示全部楼层
.13工艺中也有PMOS与NMOS宽长比为1:1的.
发表于 2012-5-23 23:09:39 | 显示全部楼层
仿个inverter,以1/2 VDD为cross point来确定比例吧
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