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[求助] 关于离子注入有点困惑

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发表于 2011-9-26 11:13:59 | 显示全部楼层 |阅读模式

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离子注入是将高能带电原子或分子直接掺入衬底的工艺。如果向衬底注入磷离子?注入后衬底硅岂不是带负电?小弟很是困惑,请大侠们帮忙解惑。谢谢!
发表于 2011-10-5 09:29:11 | 显示全部楼层
不是带负电,是电子比较多!五族元素可以提供电子,这个不代表带负电。磷离子进入到沉底以后,虽然是离子,但是总体还是不显带电的。
发表于 2012-2-19 22:01:23 | 显示全部楼层
回复 1# huang1986


    拿出来之后即使带电也被中和了,和空气接触
发表于 2012-2-21 22:51:16 | 显示全部楼层



注入的时候,wafer sub会跟类似接地的装置相连,带点离子注入之后被中和掉了,所以最后显中性
发表于 2012-2-22 12:48:35 | 显示全部楼层
杂质还需要激活呢
发表于 2012-2-24 11:04:19 | 显示全部楼层
激活后形成N型半导体材料
发表于 2012-4-23 17:04:44 | 显示全部楼层
这里有个浓度的问题
发表于 2012-4-28 11:43:56 | 显示全部楼层
注入后wafer会带电,但是会被后续制程中和掉,如果中和这步不彻底或者出问题的话,会造成charge damage
发表于 2012-4-28 11:45:07 | 显示全部楼层
注入后wafer会带电,但是会被后续制程中和掉,如果中和这步不彻底或者出问题的话,会造成charge damage
发表于 2012-5-11 10:10:19 | 显示全部楼层
注入根据机台的不同,有差别。大束流注入机台一般在粒子进入硅片前有一个电子喷淋中和的过程,实际上注入的大部分不是带电的离子了。小束流注入机台基本就会有一个SUB接地的类似过程,所以注入后的硅片实际不带电。
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