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[求助] 请问工艺 WAT中的三个参数是啥意思?VTFpo_N+,VT_N4 N1u ,SPA_PO

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发表于 2011-8-18 11:53:27 | 显示全部楼层 |阅读模式

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VTFpo_N+
VT_N4 N1u    这个应该是阈值电压吧
SPA_PO ,SPA_M1

以上三个参数分别代表啥?最好能有参数的英文全称
 楼主| 发表于 2011-8-18 16:31:04 | 显示全部楼层
另,TSMC 0.13um LV 工艺中,PCM 参数的具体说明在哪边能找到?
发表于 2011-8-18 17:33:15 | 显示全部楼层
VTFpo_N+-->threshold voltage of N+ field device(poly field)
VT_N4 N1u -->threshold voltage of NMOS
SPA_PO ,SPA_M1 -->Spacing of poly;spacing of metal1
发表于 2011-8-18 20:14:00 | 显示全部楼层
请再详细解释一下  VTFpo_N+-->threshold voltage of N+ field device(poly field) 。N+ field device(poly field)是什么器
-->please see below WAT introduction
http://wenku.baidu.com/view/e126dc116c175f0e7cd137ae.html
发表于 2011-8-18 20:17:29 | 显示全部楼层
Foundry WAT data 最好不要放在网上..切记
发表于 2011-8-19 14:07:49 | 显示全部楼层
"对于TSMC 0.13um LV  1.5V/3.3V工艺,WAT测试数据是7V左右,这个要是阈值电压的话,不太靠谱吧。请看附件"
这个阈值有什么问题?你是觉得太大还是太小?一个寄生器件而已
 楼主| 发表于 2011-8-23 11:23:57 | 显示全部楼层
回复 4# athome1

N field device.jpg
    对于 N field device 请问 如图,为什么 有 POLY出现在 STI上?这是种什么器件?这种器件通常有啥用途?
发表于 2011-8-28 18:59:17 | 显示全部楼层
PCM 参数在tsmc online上面可以下载的额,
发表于 2011-8-28 19:04:59 | 显示全部楼层
回复 6# 82314272


    是field器件,不是常规器件
发表于 2011-9-6 17:50:19 | 显示全部楼层
本帖最后由 athome1 于 2011-9-7 09:14 编辑

对于 N field device 请问 如图,为什么 有 POLY出现在 STI上?这是种什么器件?这种器件通常有啥用途?
Ans:
1.Poly 除了做 gate 之外,还会做绕线或做电阻的功能,那它就会跨STI(field oxide)
2. 是field器件,不是常规器件
3.最主要是作用为: Isolation 此 rule 与STI 底下的浓度;STI dimension;STI thickness 有绝对相关,当然 Vth 愈大愈好,isolation 比较好!
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