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楼主: KeepEasy

[讨论] LDO/bandgap 问题 - Die-toDie 偏差的原因

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发表于 2011-6-13 12:39:02 | 显示全部楼层
运放offset如何计算?
MC没model支持。
发表于 2011-6-16 08:59:29 | 显示全部楼层
回复 9# KeepEasy


    掩模板确定了,但是光刻到wafer上也会造成尺寸的随机误差,尺寸比较小的话这种误差可能是比较大的。还有同一wafer上不同地方的MOS和电阻的掺杂浓度也会不一样啊,MOS的特性,电阻的阻值自然就不一样了。offset的计算,版上搜一下,或者RAZAVI, SANSEN的书上都有讲的
发表于 2011-6-16 10:06:42 | 显示全部楼层




    应该说用一个模子印出来的饺子会一样吗
发表于 2011-6-16 10:14:36 | 显示全部楼层
什么是 die to die 偏差。。。。
发表于 2011-6-16 12:25:18 | 显示全部楼层
回复 13# when3595023


    经典
发表于 2011-6-16 15:16:42 | 显示全部楼层
die to die偏差10%是有可能的啊,如果没有跑蒙特卡洛分析,fountry只保证3个sigma的偏差
发表于 2011-6-16 15:49:09 | 显示全部楼层
掩模板是保证在哪里做操作(注入、扩散、光刻),但这些步骤都会带来误差,注入的粒子束不一样,光刻的尺寸不一样等等。
发表于 2011-6-16 21:14:53 | 显示全部楼层
楼上说的对。offset这东西很难搞。如果出来偏差大。要仔细看分布情况。如果是双峰分布,很有可能有硬伤。比如设计失误或者工艺错误。这些问题好找原因,好坏片子对比就可以分析出来。如果是正态分布,就是偏差大,不好整。基本可以定义为失调引起的重点部分一点点分析才行
发表于 2011-6-18 01:16:36 | 显示全部楼层
首先确认BG的分布,然后再看环路增益和失调,多半是BG的问题,LS很多意见值得参考,多测多分析,自然清晰。工艺模型支持,跑monte carlo!
发表于 2011-6-21 17:42:25 | 显示全部楼层
如此大的差异,不太可能是mismatch ,怀疑是不是有mos 不在饱和区阿?!或者版图有错?!
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