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HVLUP.W.3_HVDMY_24_20_16_12_9_6_GA { @ Min width of N+ HV LUP guard ring of Low-side I/O HV device(except Fully-isolated Low-side I/O HVNMOS) >= 2
@ (N+ HVLUP guard ring is an additional ring for Low-side I/O HV device)
POST_DRIVER_ACT_HVN_LS_HVDMY_24_20_16_12_9_6_GA_NONFULL NOT INSIDE NPOD_GR_H_L_HVDMY_24_20_16_12_9_6_GA
POST_DRIVER_ACT_HVP_LS_HVDMY_24_20_16_12_9_6_GA NOT INSIDE NPOD_GR_H_L_HVDMY_24_20_16_12_9_6_GA
}
1.首先这个错本意是需要Low-side I/O HV device的 N+ HV LUP guard ring(也就是N+的isoring,剖面图中的W3,跟你说的衬底以及psub ring是没关系的)要>=2u,你的layout要满足这个,你说的再额外加isoring能解决这个错,我不认可,因为担心你会破坏他的一个结构(如果你所用的Low-side I/O HV device 已满足w3>=2,layout中还是会报衬底等其他ring,我建以你标注记录一下,邮件咨询TSMC)
2.except Fully-isolated Low-side I/O HVNMOS意思是如果你是 Fully-isolated Low-side I/O HVNMOS就可排除这个错,报错可以wavie
3.你困惑你用的n管这一类里面根本没包括w3的错误类型,因为这N管结构就是没有w3,所以规则里额外提出让你except Fully-isolated Low-side I/O HVNMOS,所以layout报的N管的这一类错你可以wavie
提供的信息有限,我也不能肯定我的答复准确无误,可以当做参考建议
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