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[讨论] 高压LDMOS进行大比例电流镜像时仿真和实际差距有多大?

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发表于 昨天 18:31 | 显示全部楼层 |阅读模式
悬赏50资产未解决
如题,小弟在项目中使用该结构对功率管进行电流采样,功率管为20V的nldmos,运放采用高压输入的共栅放大器。

示意图.jpg
设置电流比例为1A:100uA也就是一万倍。仿真中PVT全都比较精准,上下浮动不超过5%,应该也没有出现耐压问题。
但是测试结果极其不理想,几乎没有准度可言,相差近50%,且线性度也较差。
三端都钳位在同一电压,这个结构对于版图的一些寄生电阻电容啥的似乎并不那么敏感,至少不应该出现这么大差距。
想知道这种高压管尤其是LDMOS只能固定最小L,是不是本身复制电流的比例就难以预料?
想请教造成这么大偏差可能是什么原因呢?如果不考虑其他因素(运放钳位不准,版图位置没在一块,耐压出现问题等),10000倍比例的高压LDMOS电流镜实际上本身会有多大偏差?

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