在线咨询 切换到宽版
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网

 找回密码
 注册

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

搜全文
查看: 251|回复: 2

[求助] SPICE工艺库讨论

[复制链接]
发表于 4 天前 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册,结交更多好友,享用更多功能,让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

×
Rt,在蒙卡时看到TSMC提供了如下四个库,之前一般用Case2下的库做蒙卡。
请教各位大佬两点:
1. TTG和TT有什么差异?即仅考虑Global Variation和考虑了Global+Local Variation两种情况下,TT工艺角是会发生偏移吗
2. Case3中只有Local Variation,那和TTGlobalCorner_LocalMC有什么区别?
谢谢各位!




2a2326546c7510e6ceb8879f03d616f9.png
506ba48d03660e615cb9038baf3ffaac.png
发表于 3 天前 | 显示全部楼层
Local是相邻两个器件的mismatch导致的,而Global是die to die,wafer to wafer,lot to lot的工艺波动导致的
回复 支持 反对

使用道具 举报

发表于 3 天前 | 显示全部楼层
问题1:TT与TTG两个corner是相同的,都是typical管子。
回复 支持 反对

使用道具 举报

您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /1 下一条

手机版| 小黑屋| 关于我们| 联系我们| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2025-9-28 02:20 , Processed in 0.015755 second(s), 5 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表