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楼主: guangshao

[问题解决了]请问这种mos管的match方式有什么好处啊?内图请进

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发表于 2010-11-29 14:52:17 | 显示全部楼层
应该是有更好的PSRR
发表于 2010-12-1 19:37:49 | 显示全部楼层
回复 23# kool


    thanks for your paper
发表于 2010-12-2 09:26:42 | 显示全部楼层
十分感谢64#
发表于 2010-12-2 16:33:22 | 显示全部楼层




  和后边同学说的格雷的P271的说得是一个意思.
另外,一般工艺下, W/L越大VTH越大, 所以靠近VDD和GND的MOS管的VTH要小一些, 更容易工作在线性区. 所以这种结构的特性也许不如理论分析的那样好
发表于 2010-12-4 16:52:13 | 显示全部楼层
kanka nzmy
发表于 2010-12-4 22:54:18 | 显示全部楼层
一起讨论
发表于 2010-12-6 14:46:55 | 显示全部楼层
xuexi...
发表于 2011-5-11 03:09:52 | 显示全部楼层
受教了,今天刚调了这种偏置结构
发表于 2011-5-11 21:04:00 | 显示全部楼层
这种结构有没有实际流片应用过呢
发表于 2011-5-11 21:39:13 | 显示全部楼层
回复 1# guangshao


    沒有什麼好處
和 W/L = 20 / 4 single pMOS 的效果相當 (equivalent effect)
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