设为首页收藏本站
在线咨询
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
切换到宽版

EETOP 创芯网论坛 (原名：电子顶级开发网)

手机号码，快捷登录

手机号码，快捷登录

找回密码

  登录   注册  

快捷导航
创芯云服务  : 创芯大讲堂  | 创芯人才网 | 数字IC职业培训  EETOP诚邀线上IC培训讲师!
搜帖子
EETOP 创芯网论坛 (原名：电子顶级开发网)»论坛 › IC 设计及制造（半导体、微电子） › Analog/RF IC 设计 › Analog/RF IC 资料共享 › 求一篇比较新的外文文献
返回列表 发新帖
查看: 117|回复: 1

[求助] 求一篇比较新的外文文献

[复制链接]
hkmonster
发表于 昨天 18:21 | 显示全部楼层 |阅读模式
15资产
标题： Influence of etching profile on pattern collapse in complementary metal oxide semiconductor image sensor pixel with deep trench isolation


期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B


DOI: https://doi.org/10.1116/6.0004309
回复

举报

胖虎17风发
发表于 昨天 19:23 | 显示全部楼层
供参考

033203_1_6.0004309.pdf

2.1 MB, 下载次数: 2 , 下载积分: 资产 -2 信元, 下载支出 2 信元
EETOP创芯人才网简历投递入口
回复

举报

返回列表 发新帖
高级模式
B Color Image Link Quote Code Smilies
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /1 下一条

小黑屋| 手机版| 关于我们| 联系我们| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2025-5-15 02:44 , Processed in 0.015909 second(s), 8 queries , Gzip On, MemCached On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表