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楼主: 阿苏拉

[求助] LDO测试输出电压偏高5%

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 楼主| 发表于 2024-11-27 16:41:16 | 显示全部楼层


tomcarrot 发表于 2024-11-27 14:41
只有厚金属的话,可能性就变小了


好的,谢谢您,目前确实没有思路了,我再测一下高低温看看有没有新的信息
 楼主| 发表于 2024-11-27 16:42:55 | 显示全部楼层


YyuanRTs 发表于 2024-11-27 15:53
后仿做全了吗?反馈点的到实际输出点会不会有压降?运放版图效应有没有产生offset? ...


您好,后仿交叉corner和MC都仿了dc和trans的,没有异常,如果只考虑LDO的layout的话这两个应该都没有
发表于 2024-11-27 16:57:46 | 显示全部楼层
先进工艺还是成熟工艺?一些二级效应有考虑吗
 楼主| 发表于 2024-11-27 17:08:33 | 显示全部楼层


Vawell 发表于 2024-11-27 16:57
先进工艺还是成熟工艺?一些二级效应有考虑吗


您好,是成熟工艺,我的理解是体效应和沟道调制效应仿真是有体现的,请问您觉得这里有没有考虑到的地方吗
发表于 2024-11-27 20:29:48 | 显示全部楼层


阿苏拉 发表于 2024-11-27 17:08
您好,是成熟工艺,我的理解是体效应和沟道调制效应仿真是有体现的,请问您觉得这里有没有考虑到的地方吗 ...


检查一下contact电阻是否包含;LOD和WPE相关参数后仿网表里面是否有体现。检查一下输入对管附近是否有不对称的比如pwell边界DNW边界
 楼主| 发表于 2024-11-28 16:56:02 | 显示全部楼层


Vawell 发表于 2024-11-27 20:29
检查一下contact电阻是否包含;LOD和WPE相关参数后仿网表里面是否有体现。检查一下输入对管附近是否有不 ...


您好,contact电阻,LDO和WPE参数在后仿中都有体现,输入对管是对称的,但FVF结构镜像电压的输入对管因为衬底电位不同没有share在一起,poly和NWELL的间距有一些差别,请问这个影响大吗
发表于 2024-11-28 19:18:52 | 显示全部楼层
是MPW还是full mask,后者可以拿一个lot统计下mc偏差。
发表于 2024-11-28 22:14:26 | 显示全部楼层


阿苏拉 发表于 2024-11-28 16:56
您好,contact电阻,LDO和WPE参数在后仿中都有体现,输入对管是对称的,但FVF结构镜像电压的输入对管因为 ...


衬底电位不同导致vth有偏差,我觉得是合理的。再加上你轻重载的区别不大,说明电路本身没什么问题。这样的话就是因为process偏差导致的,只能通过trim去修掉
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