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楼主: memory0012

[求助] mos打散,如何LVS

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 楼主| 发表于 4 天前 | 显示全部楼层


有些懒的二虎 发表于 2024-11-1 16:27
你说打散了N管,难道是有源区被删了?


我打散了NMOS,如果我只加一些POLY,LVS也会这样
发表于 4 天前 | 显示全部楼层
不知道对比看下 是否少层了????
发表于 4 天前 | 显示全部楼层
打散之后自己重新画,需要和pcell器件做对比,看是否会缺少层次或者label,有些器件依靠识别层和label识别器件的,如果层次没问题,也要注意一些相关的层次结构是不是符合drc规则,然后可以用calibre试着只提版图网表,看能不能提出器件,如果是bad device,那说明你改的就是有问题
发表于 4 天前 | 显示全部楼层
你删了一些识别层吧,导致什么都识别不出来
 楼主| 发表于 4 天前 | 显示全部楼层


Quinn714 发表于 2024-11-1 18:21
打散之后自己重新画,需要和pcell器件做对比,看是否会缺少层次或者label,有些器件依靠识别层和label识别 ...


我发现原因在于我加的poly层,导致LVS不能通过。删了就能通过LVS。因此请问在打散后可以加poly层吗?
发表于 4 天前 | 显示全部楼层


memory0012 发表于 2024-11-1 19:05
我发现原因在于我加的poly层,导致LVS不能通过。删了就能通过LVS。因此请问在打散后可以加poly层吗?
...


可不可以加Poly跟打不打散是两个独立的问题,能不能加不看有没有大散,看你加的位置会不会影响器件结构。

不管你打散还是不大散,制造出来的都是一样的。
 楼主| 发表于 4 天前 | 显示全部楼层


acrofoxAgain 发表于 2024-11-1 22:10
可不可以加Poly跟打不打散是两个独立的问题,能不能加不看有没有大散,看你加的位置会不会影响器件结构。 ...


明白了 多谢大家
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