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[求助] hlmc 55nm poly密度疑惑

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发表于 2024-9-25 14:58:23 | 显示全部楼层 |阅读模式

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本帖最后由 benjude 于 2024-9-26 15:53 编辑

想问下做过华力55nm的小伙伴,DRC里有个poly密度max 40%,你们是怎么处理的。

这个40%不仅是full chip的,还有报100 x 100 范围内这样的 。

这个问题很疑惑的点在于布局,管子尺寸大点,放在一起就容易报出来。导致不得不拉开间距,这样匹配性也弱一些。

做其他工艺没有这个问题,都是poly密度不够,洒dummy解决,这个超了的就难顶。

问过工厂,回答模棱两可,主要意思还是按rule来。但按rule画确实太抽象了,比如电流镜的管子都得拉开放很远才不报错。

个人感觉值不太合理,设置成max不超60%,70%,80%这样就很nice,不清楚工艺上是啥原因。


 楼主| 发表于 2024-9-26 15:12:16 | 显示全部楼层
自顶一个
发表于 2024-9-26 15:31:50 | 显示全部楼层
做过28 22 的工艺都会有POLY密度MAX 的rule 。如果是full chip的密度问题应该还好吧 如果是划分window下的POLY密度超了通常做法就是拉开间距了 可以问问电路匹配性要求有多高 或者 管子尺寸能不能调
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