在线咨询
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
切换到宽版

EETOP 创芯网论坛 (原名:电子顶级开发网)

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

找回密码

  登录   注册  

快捷导航
搜帖子
查看: 520|回复: 3

[求助] 在TSMC做solder bumping

[复制链接]
发表于 2024-9-19 09:55:54 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册,结交更多好友,享用更多功能,让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

x
在TSMC的官方rule文件上有这样一段描述:“Minimum top metal requirements for the eutectic and lead-free bump flip chip package” "Two layers of Mz" "One layer of Mu top metal is not allowed when logic process offers Mu top metal option".不知道什么意思。
我们打算去TSMC做flip chip solder bumping,在台积电流片。工艺是22nm的M1-5Mx-Mz-Mu.
请问大家,按照台积电的rule描述,我们这样的metal option是不是没法在他们那里做bumping?因为是小公司,没有办法直接联系台积电的技术人员,中介不是很清楚这个问题。
发表于 2024-9-19 10:47:29 | 显示全部楼层
可以的,已有两层厚金属。
如果一层UTM下面直接是inter metal, 是不可以的
 楼主| 发表于 2024-9-19 16:36:49 | 显示全部楼层


caca29 发表于 2024-9-19 10:47
可以的,已有两层厚金属。
如果一层UTM下面直接是inter metal, 是不可以的


你的意思是有Mz和Mu两层厚金属了,是符合bumping要求的是吧?
发表于 2024-9-20 15:20:21 | 显示全部楼层
让你们的流片代理去找TSMC确认啊
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /2 下一条

×

小黑屋| 手机版| 关于我们| 联系我们| 在线咨询| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2024-11-30 20:48 , Processed in 0.015828 second(s), 6 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表