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[求助] layout的源漏合并

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发表于 2024-9-12 14:25:27 来自手机 | 显示全部楼层 |阅读模式

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如题,公司前辈教的是差分对管放在一起需要合并源漏,这样匹配性能更好,但电流镜管的匹配不需要合并源漏,并排放着掺杂区域贴在一起就行,因为合并后少一个finger对出来的电流会有影响。
最近看了有些国外芯片的图片,发现他们能合并的全做了合并,所以有些迷茫了。请问什么情况下需要源漏合并,合并与否两种方式有各自的优劣吗
发表于 2024-9-12 15:37:34 | 显示全部楼层
顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶顶
发表于 2024-9-13 08:51:43 | 显示全部楼层
看公司要求。有些要求这样,有些那样。
发表于 2024-9-13 09:06:37 | 显示全部楼层
从LOD效应看,差分对管合并源漏LOD效应减弱,且仍然能保持对管之间各参数匹配。电流镜如果只有两个管应该也是可以合并,超过两个以上合并的话,LOD不同会引起失配。当然有的电流复制可以waive这点失配,都合并就可以省面积。
发表于 2024-9-13 10:26:40 | 显示全部楼层
他匹配器件要加dummy的,LOD其实可以忽略了
发表于 2024-9-13 10:36:52 | 显示全部楼层
有没有可能是想降低驱动电流,差别不大,该共用还是共用吧
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