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查看: 1748|回复: 6

[求助] NWELL电阻under STI的制造流程是什么?

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发表于 2023-2-5 16:46:43 | 显示全部楼层 |阅读模式

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我有一个问题不懂,芯片制造先做STI,难道nwell resistor under STI是在STI制作的之前,在有这个电阻的位置先进行nwell注入?然后再经行STI的制作?
发表于 2023-11-16 16:41:24 | 显示全部楼层
同问
发表于 2023-11-22 15:38:32 | 显示全部楼层
先做阱吧 再有源区
发表于 2023-11-30 10:53:49 | 显示全部楼层
同问
发表于 2023-12-13 16:51:51 | 显示全部楼层
早期可能会有阱做在AA之前的做法,但是那个会需要zero层,目前除了BCD制程很少特意加zero了,所以基本都是先AA再做阱。N阱打的峰值深度0.6um是有的,STI深度再深一般超不过0.5um,是能打过去的。NWAA电阻一般400~500ohm, NWSTI 900~1000ohm,如果打不过去,仅仅靠NW的横向扩散,NWSTI的电阻得好几千吧
发表于 2024-2-23 11:03:21 | 显示全部楼层
5#讲的对,NWSTI Rs还能在一定程度上反应STI深度的变化。   
发表于 2024-6-13 17:45:45 | 显示全部楼层


cd1992 发表于 2023-12-13 16:51
早期可能会有阱做在AA之前的做法,但是那个会需要zero层,目前除了BCD制程很少特意加zero了,所以基本都是 ...


NWELL电阻under STI和NWELL电阻under AA在使用上有什么区别?
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