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[求助] 请问一下,工艺制造中氧化层的厚度是什么样的

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发表于 2022-12-5 09:37:41 | 显示全部楼层 |阅读模式

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我看有的学校的课件上写着,氧化层的边缘和中心厚度是不一致的,我想问一下,是由边缘到中心厚度增加还是厚度减少,是线性的增加或减少的吗

发表于 2022-12-5 11:26:41 | 显示全部楼层
一般的栅氧化层是通过热氧化硅来实现的,由于边缘(AA与STI交界的地方)的侧面也会接触到氧化物,所以边缘的氧化深度会稍微深一点,这在厚氧层(HV器件的栅氧化层)上尤其明显,所以边缘的厚度会比中心的稍厚(俗称bird beak--不确定写对了没:)),但是这个变化很快,大概印象在1u以内就结束了,里面都是均匀的氧化层了.
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