在线咨询
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
切换到宽版

EETOP 创芯网论坛 (原名:电子顶级开发网)

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

找回密码

  登录   注册  

快捷导航
搜帖子
查看: 1191|回复: 1

[求助] 请问一下,工艺制造中氧化层的厚度是什么样的

[复制链接]
发表于 2022-12-5 09:37:41 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册,结交更多好友,享用更多功能,让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

x
我看有的学校的课件上写着,氧化层的边缘和中心厚度是不一致的,我想问一下,是由边缘到中心厚度增加还是厚度减少,是线性的增加或减少的吗

发表于 2022-12-5 11:26:41 | 显示全部楼层
一般的栅氧化层是通过热氧化硅来实现的,由于边缘(AA与STI交界的地方)的侧面也会接触到氧化物,所以边缘的氧化深度会稍微深一点,这在厚氧层(HV器件的栅氧化层)上尤其明显,所以边缘的厚度会比中心的稍厚(俗称bird beak--不确定写对了没:)),但是这个变化很快,大概印象在1u以内就结束了,里面都是均匀的氧化层了.
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /2 下一条


小黑屋| 手机版| 关于我们| 联系我们| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2024-12-26 04:16 , Processed in 0.015313 second(s), 7 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表