关于cc （customCompiler）讨论贴

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论坛里关于cc customCompiler 或Laker的讨论太少了，想开个帖子一起学习S家的工具使用心得。以前的版本只有tcl 脚本，最新版本 custom compiler 已经可以支持python 了！工具更加 open。

最近在cc上写了几个脚本，功能分享下：
第一个脚本功能介绍：
从繁杂的版图中选择出跟选中的obj相同属性的其他objs，更快的选择出想要的东西。
1.选中需要选择的器件或层次，然后框选一个区域。
2.这个框选的区域里跟第一步相同属性的器件都会被选择出来。其他不一样的都不会选中。

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看到一些朋友还在花时间在查找函数自己来写一些操作功能，有时候写的通用性和应对复杂场景会有不少bug。看了下Custom Compiler有比较好solution，下面分享下几个好用的功能。

1.bus connect的功能：create bus下extend mode

然后白虚线可以按鼠标移动到合适位置再完成连接动作。

2.第二个好用的功能去除多余线头到Via 位置，CC还可以对整条net 进行trim dangling layer，能保证剔除冗余的走线。

整条bus 操作

3.Bus bridge 快速交叉走线跳层

我们还可以对这些功能用脚本进行二次包装，或对这些操作进行相关的option的预设，来进一步提高操作效率与使用的便捷度。

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最近在customcompiler平台上开发了一些脚本，开发的一些心得感受与大家分享。不得不说cc平台做二次脚本开发真的很方便，也有可能是我对tcl比skill 要使用顺手些吧。CC 内置的command对于开发图像用户界面也是非常简单，当然也是支持TK工具箱。

第一个脚本相信很多人也用过相似的功能，其主要为了解决mos device的进一步连接，源漏金属加宽叠层。栅端cont生成和自动添加对应guardring和注入层等，对效率提升也是很有帮助。主要利用了布尔运算来得到对于的位置，相比直板的根据pcell相对距离方式来说，布尔运算的适用性更好些。效果如下：

add gr

第二个脚本是为了自动增加bits/paths ，对于需要增加复杂长走线是非常方便的。脚本最主要就是在分析bus的走向与每段path的位置关系，所以我用了数组套数组来追踪记录每段path的信息。

addbus

第三个脚本是自定义添加dummy pattern，可以根据用户选择的区域也可以根据既有的层次为boundary。对于敏感模块，使用这种方式添加dummy还是比较方便的。
      
############################ 未完待续 ##############################

分享CC Design Retargeting/Migration flow

工作中一定会遇到design porting的问题，当项目需要从一个process 切换到另一个process时候. Schematic 和layer 如何来快速完成迁移呢？同一foundry下的不同process 或许pcell 对应的cdf 还可以map上，通过replace 方式完成对应器件替换。但是对于不同foundry以及不同的process 之间迁移就不是那么容易了，device model name，cdf ，limit size，symbol结构等都不一致。这时候传统手动方式就不是那么容易做到了。

这里介绍下custom compiler Design Retargeting Flow 这也是个隐藏的gift:

l对于schematic design，可以根据各自的对应symbol完整porting过去，而不会因为pcell symbol 不一致导致连接上问题。

l对于layer design，这个flow只会将对应的instance/pcells 迁移过来。其实我们也知道对应不同工艺版图porting是没有多少意义的，因为pcell的形状大小，以及对应drc要求都不同，porting过来也会是一堆的问题。相同的工艺节点，可能还是有些用处。

先看这个tool在哪里：

上图中画出的两份pdf是flow的介绍与step by step的使用方

法。

Configuring the setup tab:

主要设置design 信息，reference libraries，mapping 等信息，mapping可以在后面两个tab中详细设置。

Mapping Classes 对于相似类型的devices可以创建group来设置对于parameter mapping的信息。针对group里的device map可以在cell mapping中设置。这里的override target value和condition功能是非常有用的，可以根据不同条件来对应定制的mapping.

Callback option需要注意打开对应callback 会增加migration 的时间。

后面更详细的内容可以查看上面那两份pdf。

Design Compare：

下面是我做的case，是一个从平面工艺porting到finfet的case,我们可以看到效果symbol不一致不影响连接正确性，这里因为fin的原因width上是不能完全一致的。从效率与质量上看已经是非常好了。

这个也顺便介绍下custom compiler的Compare Design的功能。可以高亮两份电路的差别。这个功能对应版图工程师来说也是个福利，RD版本迭代改了什么内容可以快速get到，不用通过lvs 去debug。

Custom compiler 的Indesign EM功能

hustjzr

支持一波，请问一下楼主，cc里面自带的版图编辑器是laker吗

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hustjzr 发表于 2022-5-23 00:39
支持一波，请问一下楼主，cc里面自带的版图编辑器是laker吗

cc就是一个full flow的工具，版图编辑部分吸取了Laker的优点，功能更强大，API很丰富更开放一些。

hustjzr

楼主用的cc是2021版本吗，我现在用的cc是2021的，里面集成的primewave仿真环境，可以调用GPU加速仿真

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hustjzr 发表于 2022-5-25 09:03
楼主用的cc是2021版本吗，我现在用的cc是2021的，里面集成的primewave仿真环境，可以调用GPU加速仿真 ...

primewave用的少，主要还是Layout部分使用

hustjzr

cc的话需要工艺厂提供ipdk格式的，40nm以上的成熟节点好像都没有吧

quanqiutong

cc是和virtuous差不多的东西吗？看到过这个软件，不知道是干什么的

xxtop

可以分享一下CC 这个工具吗？？

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hustjzr 发表于 2022-5-25 13:39
cc的话需要工艺厂提供ipdk格式的，40nm以上的成熟节点好像都没有吧

常见工艺成熟节点一般都是有的foundary下载的时候需要找下

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quanqiutong 发表于 2022-5-25 14:04
cc是和virtuous差不多的东西吗？看到过这个软件，不知道是干什么的

cc 也是一个全流程工具，电路仿真版图设计等，版图操作功能跟virtuoso差不多，个别应用很有特色。