TSMC28工艺库跑LVS不能正常识别mos管

chenniechen · 发表于 2022-4-19 22:05:35

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萌新在学做layout设计碰到了非常奇怪的问题，为了简单起见，我就拿只有两个pmos的电路演示

电路原理图如下，就两个pmos，没有连线没有port，非常简单

做layout的时候，如果这样做能过LVS，注意看下面那个pmos的poly延长出来了，但是和上面pmos的pp没有重叠

然后我把poly再拉长一点，和上面pmos的pp有重叠了，然后LVS就过不了，下面那个pmos识别不出来了

我反复测试过，poly和pp没有重叠时可以识别，或者有重叠但是离得比较近也是可以的，比如说把延长出来的poly稍微左移了一格就可以了

我对此感到非常的不理解完全不知道问什么，用的工艺库是TSMC28的，恳请大佬们能够教教我

chenniechen · 发表于 2022-4-19 22:16:24

我也试了下nmos，同样也有这个问题

敬山一休 · 发表于 2022-4-20 08:59:49

你看一下不过的图的DRC是不是能过，我记得poly画是有要求的要在注入层内

unix_amr · 发表于 2022-4-27 03:15:42

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unix_amr · 发表于 2022-4-27 03:19:07

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Michael2023 · 发表于 2024-1-3 22:14:33

楼主能分享T28 PDK吗！先谢谢了

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